发明

基于聚(甲基氢硅氧烷)的多孔网状高温耐氨疏水减反射涂层2024

2024-03-25 07:47:29 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311561420.2
  • 公开(公告)日:2024-03-22
  • 公开(公告)号:CN117735849A
  • 申请人:常州大学
摘要:本发明属于涂层技术领域,具体涉及一种基于聚(甲基氢硅氧烷)的多孔网状高温耐氨疏水减反射涂层。以正硅酸四乙酯和聚(甲基氢硅氧烷)为硅源,在碱性条件下,使用溶胶‑凝胶法合成碱性多孔网络状硅溶胶,利用浸渍‑提拉法在玻璃片基底镀制一层多孔网络状硅溶胶涂层,最后在100℃的烘箱中固化1h得到疏水减反射涂层。本发明制备的涂层在可见光范围内平均透光率可以达到98.64%,水接触角125.0°,在130℃含氨水的气氛中处理12小时,在400‑800nm的平均透光率仅下降约0.2%,涂层具有良好的长时间耐高温耐碱特性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117735849 A (43)申请公布日 2024.03.22 (21)申请号 202311561420.2 (22)申请日 2023.11.22 (71)申请人 常州大学 地址 213164 江苏省常州市武进区滆湖中 路21号 (72)发明人 陈若愚 卢才浪 贾倩 刘小华  (74)专利代理机构 常州市英诺创信专利代理事 务所(普通合伙) 32258 专利代理师 李楠 (51)Int.Cl. C03C 17/00 (2006.01) C09D 1/00 (2006.01) C09D 183/04 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 基于聚(甲基氢硅氧烷)的多孔网状高温耐 氨疏水减反射涂层 (57)摘要 本发明属于涂层技术领域,具体涉及一种基 于聚(甲基氢硅氧烷)的多孔网状高温耐氨疏水 减反射涂层。以正硅酸四乙酯和聚(甲基氢硅氧 烷)为硅源,在碱性条件下,使用溶胶‑凝胶法合 成碱性多孔网络状硅溶胶,利用浸渍‑提拉法在 玻璃片基底镀制一层多孔网络状硅溶胶涂层,最 后在100℃的烘箱中固化1h得到疏水减反射涂 层。本发明制备的涂层在可见光范围内平均透光 率可以达到98.64%,水接触角125.0°,在130℃ 含氨水的气氛中处理12小时,在400‑800nm的平 均透光率仅下降约0.2%,涂层具有良好的长时 A 间耐高温耐碱特性。 9 4 8 5 3

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