一种反应腔组件、MPCVD系统及MPCVD系统控制方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116334597 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310308224.8 (22)申请日 2023.03.28 (71)申请人 成都沃特塞恩电子技术有限公司 地址 610045 四川省成都市高新区益州大 道中段1800号3栋3层301号 (72)发明人 黄春林　陈森林　李俊宏　李东亚　 (74)专利代理机构 北京卓恒知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 11394 专利代理师 孔鹏 (51)Int.Cl. C23C 16/511 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/27 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) 权利要求书2页 说明书4页 附图4页 (54)发明名称 一种反应腔组件、MPCVD系统及MPCVD系统控 制方法 (57)摘要 本发明提供了一种反应腔组件、MPCVD系统 及MPCVD系统控制方法，属于微波系统领域。上述 系统包括机架及上述反应腔组件，反应腔组件的 内腔中设置有隔离板，通过隔离板上设置有多孔 陶瓷对腔体中的粉尘进行吸附，从而降低反应腔 中的粉尘含量；进而能够确保反应腔中的反应能 够正常进行。而上述控制方法主用于控制上述 MPCVD系统，其主要是对上述MPCVD系统进行智能 控制，从而能够实现自动切换可用气流通道；并 及时提示工作人员更换不可用多孔陶瓷；进而保 证整个系