发明

一种n型半导体金刚石材料的制备方法

2023-06-02 12:54:52 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310155639.6
  • 公开(公告)日:2024-12-10
  • 公开(公告)号:CN116180237A
  • 申请人:四川大学
摘要:本发明所述n型半导体金刚石材料的制备方法,工艺步骤如下:(1)单晶金刚石的预处理,以去除单晶金刚石表面的杂质;(2)掺杂坯体的制备,将预处理后的单晶金刚石置于n型掺杂物质的单质粉体或化合物粉体中模压成型,或者将n型掺杂物质的单质粉体或化合物粉体放入箔材或无机非金属材料容器中,再将预处理后的单晶金刚石置于n型掺杂物质的单质粉体或化合物粉体中模压成型;(3)将掺杂坯体放入静高压设备中,在确定的掺杂压力和掺杂温度保温保压进行热扩散掺杂,热扩散掺杂完成后,清洗去除包裹材料和掺杂后的金刚石表面杂质并干燥,即得到晶格完整、掺杂浓度高、性能优良的n型半导体金刚石材料。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116180237 A (43)申请公布日 2023.05.30 (21)申请号 202310155639.6 (22)申请日 2023.02.23 (71)申请人 四川大学 地址 610000 四川省成都市一环路南一段 24号 (72)发明人 贺端威 郭睿昂  (74)专利代理机构 成都科海专利事务有限责任 公司 51202 专利代理师 黄幼陵 (51)Int.Cl. C30B 31/02 (2006.01) C30B 29/04 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 一种n型半导体金刚石材料的制备方法 (57)摘要 本发明所述n型半导体金刚石材料的制备方 法,工艺步骤如下:(1)单晶金刚石的预处理,以 去除单晶金刚石表面的杂质;(2)掺杂坯体的制 备,将预处理后的单晶金刚石置于n型掺杂物质 的单质粉体或化合物粉体中模压成型,或者将n 型掺杂物质的单质粉体或化合物粉体放入箔材 或无机非金属材料容器中,再将预处理后的单晶 金刚石置于n型掺杂物质的单质粉体或化合物粉 体中模压成型 ;(3)将掺杂坯体放入静高压设备 中,在确定的掺杂压力和掺杂温度保温保压进行 热扩散掺杂,热扩散掺杂完成后,清洗去除包裹 材料和掺杂后的金刚石表面杂质并干燥,即得到 A 晶格完整、掺杂浓度高、性能优良的n型半导体金 7 刚石材料。 3 2 0 8 1 6 1 1 N C

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