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发明

一种卤苯衍生物及其制备方法、光激活薄膜材料及其制备方法和应用2025

2023-11-05 07:42:58 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202310929163.7
  • 公开（公告）日：2025-04-11
  • 公开（公告）号：CN116986996A
  • 申请人：广东工业大学
摘要：本专利申请提供了一种卤苯衍生物及其制备方法和应用，该卤苯衍生物具有如式(I)所示的结构式，X为卤素原子(F、Cl、Br)，R为电子给体基团。本专利申请以卤苯基团作为受体结构，以连接不同给体基团R，通过Suzuki反应合成了客体材料，而主体材料为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。通过主客体掺杂的方法可以得到具有光激活的光刺激响应薄膜材料，在经365nm的紫外灯不同时间的照射下表现出不同的发光强度。该薄膜在不同的光照时间下具有不同的发光强度所表现出来的光激活特性可应用于显示、信息加密、防伪等方面。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116986996 A (43)申请公布日 2023.11.03 (21)申请号 202310929163.7 C08L 33/12 (2006.01) C08K 5/18 (2006.01) (22)申请日 2023.07.26 C08J 5/18 (2006.01) (66)本国优先权数据 C07D 219/08 (2006.01) 202310885943.6 2023.07.18 CN C07D 209/86 (2006.01) (71)申请人 广东工业大学 C07D 209/88 (2006.01) 地址 510006 广东省广州市番禺区大学城 C07D 491/048 (2006.01) 外环西路100号 C07D 495/04 (2006.01) C07D 487/04 (2006.01) (72)发明人 向峥嵘　穆英啸　霍延平　方凡　

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