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带电粒子照射装置、系统、方法以及程序

2023-05-17 11:50:33 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202080085060.1
  • 公开(公告)日:2024-11-29
  • 公开(公告)号:CN114830830A
  • 申请人:SHISHIDO静电气株式会社|||国立大学法人岩手大学
摘要:提供一种能使带电物迅速接近目标带电状态的带电粒子照射装置等。提供一种带电粒子照射装置,具备:照射前状态检测部,检测照射带电粒子之前的带电物的带电状态即照射前带电状态;学习完毕模型,输入带电物的带电状态和与用于控制对该带电物照射的带电粒子的控制量相关的控制参数,从而生成在所述控制参数下控制并照射带电粒子之后的带电物的带电状态即推定带电状态;推定带电状态生成部,向学习完毕模型输入照射前带电状态和多个控制参数,生成与照射前带电状态和多个控制参数对应的多个推定带电状态;选择部,从多个推定带电状态中选择与目标带电状态最接近的推定带电状态;以及照射部,基于与选择出的推定带电状态对应的控制参数来控制带电粒子并向带电物照射带电粒子。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114830830 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202080085060.1 日吉功 竹内隆一 永田秀海  (22)申请日 2020.12.08 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 (30)优先权数据 专利代理师 于丽 2019-222359 2019.12.09 JP (51)Int.Cl. (85)PCT国际申请进入国家阶段日 H05F 3/04 (2006.01) 2022.06.08 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/045663 2020.12.08 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/117719 JA 2021.06.17 (71)申请人 SHISHIDO静电气株式会社 地址 日本东京 申请人 国立大学法人岩手大学 (72)发明人 高桥克幸 金天海 高木浩一  久保胜也 金田优希 山口晋一  权利要求书3页 说明书7页 附图9页 (54)发明名称

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