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PCT发明

用于清洁光刻设备内的支撑件的设备和方法

2023-06-11 13:04:38 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980073767.8
  • 公开（公告）日：2024-10-11
  • 公开（公告）号：CN112969970A
  • 申请人：ASML控股股份有限公司
摘要：一种用于清洁光刻系统中的支撑结构的表面的设备和方法，其中，清洁衬底具有至少一个电机，该至少一个电机使清洁衬底跨越该表面横向移动。清洁衬底可以设置有电源，该电源被安装在清洁衬底上并且可选择地电连接到电机。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112969970 A (43)申请公布日 2021.06.15 (21)申请号 201980073767.8 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2019.10.22 代理人 董莘 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/757,854 2018.11.09 US G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G02B 27/00 (2006.01) 2021.05.08 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/078693 2019.10.22 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/094388 EN 2020.05.14 (71)申请人 ASML控股股份有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 J ·H ·瓦尔什　R ·J ·约翰逊　 C ·R ·范恩　

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