发明

一种蚀刻后清洗液2024

2024-04-21 07:44:28 发布于四川 46
  • 申请专利号:CN202311673190.9
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN117903887A
  • 申请人:湖北兴福电子材料股份有限公司
摘要:本发明公开了一种蚀刻后清洗液,主要应用于铜互连后段清洗,能有效去除干法蚀刻残留物或灰化后残留物。所述的清洗液由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:5‑15%氟化物、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、表面活性剂,水补足余量。本发明的清洗液可以清洗的残留物范围广,对窄线宽、高深宽比结构清洗效果佳,且对后段互连常见的金属或介质材料无腐蚀性(曝露的低k介质材料、金属氧化物、金属、金属氮化物及其合金),具有良好的应用前景。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117903887 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202311673190.9 C11D 7/30 (2006.01) C11D 7/28 (2006.01) (22)申请日 2023.12.07 C11D 7/34 (2006.01) (71)申请人 湖北兴福电子材料股份有限公司 C11D 11/00 (2006.01) 地址 443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大 道66-3号 (72)发明人 吴政 叶瑞 贺兆波 王亮 谢建  陈小超 罗海燕 刘春丽  (74)专利代理机构 宜昌市三峡专利事务所 42103 专利代理师 成钢 (51)Int.Cl. C11D 7/08 (2006.01) C11D 7/32 (2006.01) C11D 7/26 (2006.01) C11D 7/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 (54)发明名称 一种蚀刻后清洗液 (57)摘要 本发明公开了一种蚀刻后清洗液,主要应用 于铜互连后段清洗,能有效去除干法蚀刻残留物 或灰化后残留

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