一种适用于多孔宏观体材料均匀连续高效制备的化学气相沉积反应设备2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117187783 A (43)申请公布日 2023.12.08 (21)申请号 202311158789.9 (22)申请日 2023.09.08 (71)申请人 中国科学院金属研究所 地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路 72号 (72)发明人 任文才　马超群　盖龙飞　刘海超　 成会明　 (74)专利代理机构 沈阳优普达知识产权代理事 务所(特殊普通合伙) 21234 专利代理师 张志伟 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/54 (2006.01) 权利要求书3页 说明书13页 附图7页 (54)发明名称 一种适用于多孔宏观体材料均匀连续高效 制备的化学气相沉积反应设备 (57)摘要 本发明涉及化学气相沉积反应设备领域，具 体地说是一种适用于多孔宏观体材料均匀连续 高效制备的化学气相沉积反应设备。该设备由进 气控制系统、进料系统、反应系统、收料系统和尾 气及真空系统构成，进气控制系统通过保护气管 路与进料系统、收料系统相连通，通过反应气管 路与收料系统相连通；进料系统设置局域传送履 带，进料系统的进料仓上部设有进料缓冲仓，反 应系统的内衬腔中间过料狭缝与进料系统的局 域传送履带同轴对齐，收料系统的收料仓下部设 有收料缓冲仓，尾气及真空系统的真空系统、尾 A 气系统分别与进料系统