一种铜钼金属膜蚀刻液及其应用方法和显示面板

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114411151 A (43)申请公布日 2022.04.29 (21)申请号 202210057992.6 (22)申请日 2022.01.19 (71)申请人 福建中安高新材料研究院有限公司 地址 350003 福建省福州市鼓楼区软件大 道89号福州软件园G区13号楼二层201 室 (72)发明人 王维　潘春林　李自杰　林秋玉　 (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 代理人 李珊珊 (51)Int.Cl. C23F 1/18 (2006.01) C23F 1/26 (2006.01) C23F 1/02 (2006.01) H01L 21/3213 (2006.01) 权利要求书1页 说明书8页 附图2页 (54)发明名称 一种铜钼金属膜蚀刻液及其应用方法和显 示面板 (57)摘要 本申请提供了一种铜钼金属膜蚀刻液及其 应用方法和显示面板，该蚀刻液包括以下质量百 分含量的各组分：过氧化氢：10％～30％；无机 酸：5％～20％；蚀刻调节剂：0.5％～2％；水： 60％～80％；其中，蚀刻调节剂包括乙二胺四丙 酸和铬酸钾。该铜钼金属膜蚀刻液不仅具有良好 的稳定性，并且对金属铜和金属钼具有较为均衡 的蚀刻速率，采用该蚀刻液对铜钼金属膜进行蚀 刻能够消除钼的残留，达到良好的蚀刻效果。 A 1 5 1 1