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发明

一种钼铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属层的制备方法2024

2024-04-16 07:30:09 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202410277691.3
  • 公开（公告）日：2024-06-11
  • 公开（公告）号：CN117867501A
  • 申请人：芯越微电子材料（嘉兴）有限公司
摘要：本发明属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种钼铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属层的制备方法。本发明提供的蚀刻液的成分包括：磷酸、硝酸、羧酸化合物、缓蚀剂和表面活性剂；缓蚀剂至少包括乙酸铵；磷酸在蚀刻液中的含量为30~70wt%，硝酸在蚀刻液中的含量为8~20wt%，羧酸化合物在蚀刻液中的含量为1~20wt%，乙酸铵在蚀刻液中的含量为5~17wt%。该蚀刻液不含醋酸，通过引入乙酸铵并提高硝酸含量，延长蚀刻液使用寿命、避免频繁硝酸补液，且能有效控制taper角。此外，本发明引入氨基氮唑类缓蚀剂与乙酸铵复配，能广泛应用于铝钼单层或多层金属蚀刻；并通过引入锂盐调节金属钼和铝的相对蚀刻速率，改善蚀刻后形貌。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117867501 A (43)申请公布日 2024.04.12 (21)申请号 202410277691.3 (22)申请日 2024.03.12 (71)申请人 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司 地址 314200 浙江省嘉兴市平湖市钟埭街 道新明路901号3号楼 (72)发明人 计伟　刘江华　徐斌　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 专利代理师 温可睿 (51)Int.Cl. C23F 1/26 (2006.01) C23F 1/20 (2006.01) C23F 1/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图5页 (54)发明名称 一种钼铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属 层的制备方法 (57)摘要 本发明属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种钼 铝兼用蚀刻液以及基板图案化金属层的制备方 法。本发明提供的蚀刻液的成分包括：磷酸、硝 酸、羧酸化合物、缓蚀剂和表面活性剂；缓蚀剂至 少包括乙酸铵；磷酸在蚀刻液中的含量为30~ 70wt%，硝酸在蚀刻液中的含量为8 20wt%，羧酸 ~ 化合物在蚀刻液中的含量为1 20wt%，乙酸铵在 ~ 蚀刻液中的含量为5 17wt%。该蚀刻液不含醋酸， ~ 通过引入乙酸铵并提高硝酸含量，延长蚀刻液使

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