一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空镀膜方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114086140 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202111433035.0 (22)申请日 2021.11.29 (71)申请人 广东鼎泰高科技术股份有限公司 地址 523000 广东省东莞市厚街镇赤岭工 业一环路12号之一2号楼102室 (72)发明人 周敏　曹时义　王俊锋　 (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 吴萌 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图6页 (54)发明名称 一种可变磁轨式装置、真空镀膜设备和真空 镀膜方法 (57)摘要 本发明公开了一种可变磁轨式装置、真空镀 膜设备和真空镀膜方法，属于真空镀膜技术领 域。可变磁轨式装置包括靶材、电磁线圈组和电 源模块，靶材包括待烧蚀面；电磁线圈组设置于 所述靶材远离所述待烧蚀面的一侧，通过调节电 磁线圈的电流参数，使电磁线圈组相互耦合产生 磁拱来回移动的磁场，从而控制弧斑在待烧蚀面 上来回移动，产生扫描的移动效果。增加弧斑的 烧蚀面积，提高靶材利用率，避免热量集中，减少 烧蚀过程中产生的液滴，提高涂层性能。在磁拱 移动的过程中，磁场强度可以做到几乎不变，确 A 保了溅镀的工艺参数的稳定性，有助于提高工艺 0 稳定性；另外，磁场发生装置结构简单耐用，避免 4 1 6 了复杂的机械运动结构长期使用时容易出现损 8 0 4 坏