发明

MPCVD在线调节等离子体球位置的设备及方法2025

2024-01-30 07:16:09 发布于四川 38
  • 申请专利号:CN202311408900.5
  • 公开(公告)日:2025-01-03
  • 公开(公告)号:CN117448795A
  • 申请人:铂世光(上海)技术有限公司
摘要:本发明提出了一种MPCVD在线调节等离子体球位置的设备及方法,该设备包括底板;外壳其下端面固定于底板,其顶部开设气孔;内腔壳用于生成等离子体球并调节等离子体球的位置,其位于外壳内,其下端面抵住底板并可沿着底板移动,内腔壳与外壳、底板共同围成供气体流动的夹层空间,其包括依次连通的上腔体和中腔体;下腔体用于将微波馈入中腔体,其位于中腔体内,其由圆环状石英微波窗口和水冷平台围成;腔外调节机构,用于调节内腔壳在外壳中的位置,其固定于外壳的外壁,其输出端穿过外壳并固定于内腔壳,其输出端可带动内腔壳水平移动。本发明可随时调节内腔的中心位置,使等离子球位于样品台正中间。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117448795 A (43)申请公布日 2024.01.26 (21)申请号 202311408900.5 (22)申请日 2023.10.27 (71)申请人 上海铂世光半导体科技有限公司 地址 201707 上海市青浦区新科路303号1 幢 (72)发明人 张俊生 胡常青 井上英男  (74)专利代理机构 上海邦德专利代理事务所 (普通合伙) 31312 专利代理师 梁剑 (51)Int.Cl. C23C 16/511 (2006.01) C23C 16/27 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 MPCVD在线调节等离子体球位置的设备及方 法 (57)摘要 本发明提出了一种MPCVD在线调节等离子体 球位置的设备及方法,该设备包括底板;外壳其 下端面固定于底板,其顶部开设气孔;内腔壳用 于生成等离子体球并调节等离子体球的位置,其 位于外壳内,其下端面抵住底板并可沿着底板移 动,内腔壳与外壳、底板共同围成供气体流动的 夹层空间,其包括依次连通的上腔体和中腔体; 下腔体用于将微波馈入中腔体,其位于中腔体 内,其由圆环状石英微波窗口和水冷平台围成; 腔外调节机构,用于调节内腔壳在外壳中的位 置,其固定于外壳的外壁,其输出端穿过外壳并 A 固定于内腔壳,其输出端可带动内腔壳水平移 5 动。本发明可随时调节内腔的中心位置,使等离 9 7 8 子球位于样品台正中间。

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