化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114924464 A (43)申请公布日 2022.08.19 (21)申请号 202210124479.4 (22)申请日 2022.02.10 (30)优先权数据 2021-020953 2021.02.12 JP (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 小竹正晃　渡边聪　增永惠一　 大桥正树　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 专利代理师 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/039 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) 权利要求书5页 说明书47页 附图3页 (54)发明名称 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案 形成方法 (57)摘要 或硒原子。 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及 抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获 得改善图案形成时的分辨率且改善LER及CDU的 抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗 蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化 学增幅正型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷 (sulfurane)或硒烷(selenurane)化合物，以下 式(A1)表示，及(B)基础聚合物，包含含有下式 (B1)表示的重复单元且因酸的作用而分解并使 于碱显影液中的溶解度增大的聚合物。 A