发明

一种透射电镜载网网格阵列批量化制备方法2024

2024-06-01 07:23:04 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202410168665.7
  • 公开(公告)日:2024-10-25
  • 公开(公告)号:CN118064856A
  • 申请人:北京大学
摘要:本发明公开了一种透射电镜载网网格阵列批量化制备方法,属于材料领域。本发明的方法包括在硬质衬底表面溅射一层金属薄膜基底后,利用光刻构筑周期性的光刻胶软模板阵列为掩膜,再通过电镀构筑透射电镜载网网格格栅阵列结构,最后去除所述周期性的光刻胶软模板阵列与金属薄膜基底,得到所述透射电镜载网网格阵列。本发明的方法解决了国内透射电镜载网网格批量化制备的技术问题,该方法简单易行,并具有普适性;所制备的透射电镜载网网格结构质量优异,可直接用于符合透射电镜制样要求的普通电镜载网和石墨烯电镜载网的制备,后者可用于冷冻电镜单颗粒结构解析以及纳米颗粒、单原子的高分辨成像。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118064856 A (43)申请公布日 2024.05.24 (21)申请号 202410168665.7 (22)申请日 2024.02.06 (71)申请人 北京大学 地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号 (72)发明人 彭海琳 赵效乐 高啸寅 郑黎明  (74)专利代理机构 北京纪凯知识产权代理有限 公司 11245 专利代理师 任晓云 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种透射电镜载网网格阵列批量化制备方 法 (57)摘要 本发明公开了一种透射电镜载网网格阵列 批量化制备方法,属于材料领域。本发明的方法 包括在硬质衬底表面溅射一层金属薄膜基底后, 利用光刻构筑周期性的光刻胶软模板阵列为掩 膜,再通过电镀构筑透射电镜载网网格格栅阵列 结构,最后去除所述周期性的光刻胶软模板阵列 与金属薄膜基底,得到所述透射电镜载网网格阵 列。本发明的方法解决了国内透射电镜载网网格 批量化制备的技术问题,该方法简单易行,并具 有普适性;所制备的透射电镜载网网格结构质量 优异,可直接用于符合透射电镜制样要求的普通 A 电镜载网和石墨烯电镜载网的制备,后者可用于 6 冷冻电镜单颗粒结构解析以及纳米颗粒、单原子 5 8 4 的高分辨成像。 6 0

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