一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114397799 A (43)申请公布日 2022.04.26 (21)申请号 202210069647.4 (22)申请日 2022.01.21 (71)申请人 张玥 地址 110000 辽宁省沈阳市沈北新区兴明 街15-12号 (72)发明人 张玥　 (74)专利代理机构 沈阳科威专利代理有限责任 公司 21101 代理人 胡野 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) H05G 2/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图5页 (54)发明名称 一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置 (57)摘要 本发明公开了一种用于光刻机的EUV辐射源 产生装置，包括传送带；其特征在于：还包括EUV 辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空 控制单元；所述EUV辐射源产生单元包括反光杯 和激光器；在传送带的带体上设置有通光孔，在 通光孔内设置有激光晶体，在激光晶体上部设置 有涂层，在涂层上设置有多个微米孔，在微米孔 内设置有可产生极紫外光的燃料；所述清洗单元 包括碎片清洗腔和蒸汽喷头；所述燃料注入单元 包括燃料注入腔和高压喷嘴；在燃料注入腔前部 设置有第一机械臂和辅助光源，在燃料注入腔后 部设置有第二机械臂。本发明有效实现了装置的 A 连续运行，保证了燃料加注的可靠，提高了装置 9 的产生效率，同时达到提高光刻精度的目的。 9 7 7 9 3 4 1