发明

一种基于非谐振辅助的纳米压印装置

2023-05-25 12:10:38 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN201910617395.2
  • 公开(公告)日:2024-09-17
  • 公开(公告)号:CN112213918A
  • 申请人:长春工业大学
摘要:本发明公开了一种基于非谐振辅助的纳米压印装置,首先将衬底放在衬底卡盘中,调节Y轴位移平台及X‑Z轴位移平台使衬底移动到模板正下方,再控制X‑Z轴位移平台使压印装置向下运动,直至压印装置与衬底微接触,控制X‑Z轴位移平台进行压印,在压印同时使用Z向振动平台对衬底施加Z向振动,然后利用冷却装置对衬底进行冷却固化,最后用揭开式振动辅助的方法进行脱模,本发明采用Z向振动平台带动衬底进行压印,提高模板空腔的填充率与微纳图案的分辨率;采用吸气泵及多个独立封闭通道在脱模时实现揭开式脱模,在模板在与衬底逐渐分离的同时进行振动辅助,减小模板与压印胶间的粘附力,从而减少脱模时对模板造成的损伤与毁坏,延长模板的使用寿命。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112213918 A (43)申请公布日 2021.01.12 (21)申请号 201910617395.2 (22)申请日 2019.07.10 (71)申请人 长春工业大学 地址 130012 吉林省长春市延安大街2055 号 (72)发明人 谷岩 林洁琼 陈斯 徐宏宇  康洺硕 冯开拓 颜家瑄 李先耀  张昭杰 徐贞潘 易正发 戴得恩  段星鑫 卢发祥 辛成磊  (51)Int.Cl. G03F 7/00(2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图5页 (54)发明名称 一种基于非谐振辅助的纳米压印装置 (57)摘要 本发明公开了一种基于非谐振辅助的纳米 压印装置,首先将衬底放在衬底卡盘中,调节Y轴 位移平台及X-Z轴位移平台使衬底移动到模板正 下方,再控制X-Z轴位移平台使压印装置向下运 动,直至压印装置与衬底微接触,控制X-Z轴位移 平台进行压印,在压印同时使用Z向振动平台对 衬底施加Z向振动,然后利用冷却装置对衬底进 行冷却固化,最后用揭开式振动辅助的方法进行 脱模,本发明采用Z向振动平台带动衬底进行压 印,提高模板空腔的填充率与微纳图案的分辨 率;采用吸气泵及多个独立封闭通道在脱模时实 现揭开式脱模,在模板在与衬底逐渐分离的同时 A 进行振动辅助,减小模板与压印胶间的粘附力,

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