一种铜碱性化学机械抛光液

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115786918 A (43)申请公布日 2023.03.14 (21)申请号 202211451885.8 (22)申请日 2022.11.21 (71)申请人 河北工业大学 地址 300130 天津市红桥区丁字沽光荣道8 号河北工业大学东院330# (72)发明人 王如　檀柏梅　石芸慧　王帅　 刘彬　郑涛　董延伟　 (74)专利代理机构 天津翰林知识产权代理事务 所(普通合伙) 12210 专利代理师 赵凤英 (51)Int.Cl. C23F 3/04 (2006.01) C09G 1/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图5页 (54)发明名称 一种铜碱性化学机械抛光液 (57)摘要 本发明为一种铜碱性化学机械抛光液。该抛 光液的质量百分组成为二乙醇胺0.05‑1％、磨料 3‑6％、季铵化合物0.1‑2％、铜强刻蚀剂8‑13％， 余量为去离子水；抛光液pH值为7.5‑10；所述的 抛光液还包括质量百分比0.01‑0.5％的黄原胶。 本发明可以提高含有季铵碱的碱性的铜抛光液 的pH值稳定性，防止磨料分层、凝胶、颗粒直径长 大，降低抛光缺陷。 A 8 1 9 6 8 7 5 1 1 N C CN 115786918 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种铜碱性