实用新型

工艺气体控制装置及真空镀膜系统2023

2023-10-01 07:39:39 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202321388578.X
  • 公开(公告)日:2023-09-29
  • 公开(公告)号:CN219772246U
  • 申请人:中山凯旋真空科技股份有限公司
摘要:本实用新型公开了一种工艺气体控制装置及真空镀膜系统,装置包括多个布气口,多个所述布气口均匀分布在所述镀膜腔体内的靶材对应区域,所述布气口内皆设置有流量阀;控制模块,所述控制模块分别连接多个所述流量阀以用于控制布气口的气体流量,所述控制模块连接所述靶电源以用于采集靶电压。本实用新型实施方式在镀膜腔体内设置多个布气口,将多个布气口均匀分布在靶材对应区域,可以保证布气的均匀,此外控制模块根据靶电源的靶电压反馈自动调节工艺气体流量,避免工艺气体出现富集现象,有效避免靶中毒,无需频繁拆除靶材进行打磨,节约人力物力,极大地提高了生产效率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219772246 U (45)授权公告日 2023.09.29 (21)申请号 202321388578.X (22)申请日 2023.06.01 (73)专利权人 中山凯旋真空科技股份有限公司 地址 528478 广东省中山市横栏镇永拓路1 号 (72)发明人 陈培绍 彭中业 李日天  (74)专利代理机构 广州嘉权专利商标事务所有 限公司 44205 专利代理师 王本晋 (51)Int.Cl. C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)实用新型名称 工艺气体控制装置及真空镀膜系统 (57)摘要 本实用新型公开了一种工艺气体控制装置 及真空镀膜系统,装置包括多个布气口 ,多个所 述布气口均匀分布在所述镀膜腔体内的靶材对 应区域,所述布气口内皆设置有流量阀 ;控制模 块,所述控制模块分别连接多个所述流量阀以用 于控制布气口的气体流量,所述控制模块连接所 述靶电源以用于采集靶电压。本实用新型实施方 式在镀膜腔体内设置多个布气口,将多个布气口 均匀分布在靶材对应区域,可以保证布气的均 匀,此外控制模块根据靶电源的靶电压反馈自动 调节工艺气体流量 ,避免工艺气体出现富集现 象,有效避免靶中毒,无需频繁拆除靶材进行打 U 磨,节约人力物力,极大地提高了生产效率。 6 4 2

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