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一种用于单光束SERF原子磁强计的保温隔热烤箱结构2025

2024-01-26 08:07:39 发布于四川 8
  • 申请专利号:CN202311311923.4
  • 公开(公告)日:2025-09-09
  • 公开(公告)号:CN117404897A
  • 申请人:北京航空航天大学
摘要:一种用于单光束SERF原子磁强计的保温隔热烤箱结构,可实现对碱金属气室的快速均匀加热,同时避免热量向外传递,实现良好的保温隔热效果,其特征在于,包括组合形成烤箱箱体结构的气室支架和支架盖板,所述烤箱箱体结构的腔室底面上覆盖陶瓷加热结构以形成容置碱金属气室的空腔,所述陶瓷加热结构的上表面贴附有加热膜,所述陶瓷加热结构上设置有用于放置测温铂电阻的凹槽,所述气室支架和支架盖板的材料均为聚醚醚酮PEEK。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117404897 A (43)申请公布日 2024.01.16 (21)申请号 202311311923.4 (22)申请日 2023.10.11 (71)申请人 北京航空航天大学 地址 100191 北京市海淀区学院路37号 (72)发明人 唐钧剑 马瑜健 翟跃阳 林树东  许襄晋 雷高益  (74)专利代理机构 北京海虹嘉诚知识产权代理 有限公司 11129 专利代理师 吴小灿 (51)Int.Cl. F26B 23/00 (2006.01) F26B 25/00 (2006.01) G01R 33/032 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种用于单光束SERF原子磁强计的保温隔 热烤箱结构 (57)摘要 一种用于单光束SERF原子磁强计的保温隔 热烤箱结构,可实现对碱金属气室的快速均匀加 热,同时避免热量向外传递,实现良好的保温隔 热效果,其特征在于,包括组合形成烤箱箱体结 构的气室支架和支架盖板,所述烤箱箱体结构的 腔室底面上覆盖陶瓷加热结构以形成容置碱金 属气室的空腔,所述陶瓷加热结构的上表面贴附 有加热膜,所述陶瓷加热结构上设置有用于放置 测温铂电阻的凹槽,所述气室支架和支架盖板的 材料均为聚醚醚酮PEEK。 A 7 9 8 4 0 4 7 1 1 N C CN 117404897 A

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