进气组件、进气装置及半导体工艺腔室2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117418218 A (43)申请公布日 2024.01.19 (21)申请号 202311746487.3 (22)申请日 2023.12.19 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司 地址 100176 北京市大兴区北京经济技术 开发区文昌大道8号 (72)发明人 兰立广　 (74)专利代理机构 北京天昊联合知识产权代理 有限公司 11112 专利代理师 彭瑞欣　王婷 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) C30B 25/14 (2006.01) H01L 21/67 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图7页 (54)发明名称 进气组件、进气装置及半导体工艺腔室 (57)摘要 本发明提供一种进气组件、进气装置及半导 体工艺腔室，进气组件包括进气部、气体分配层 和环形均流腔；进气部具有进气通道，气体分配 层连通进气通道；气体分配层包括环绕进气部设 置的至少一个分配腔，距离进气部最近的分配腔 为第一分配腔；环形均流腔环绕进气部设置且位 于第一分配腔内，环形均流腔面向进气部一侧设 有多个均流孔，多个均流孔环绕进气部分布；进 气通道与环形均流腔连通，环形匀流腔通过多个 匀流孔与第一分配腔连通。本发明的进气组件通 过环绕进气部设置环形均流腔并在环形均流腔 朝向进气部一侧设置多个均流孔，可以通过环形 A 均流腔使工艺气体均匀分布在第一分配腔中，提