低电场下高储能性能10μm全无机弛豫型反铁电厚膜的制备方法2025

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116813214 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310901115.7 (22)申请日 2023.07.21 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西 大直街92号 (72)发明人 张锐　沈秉忠　刘洋　 (74)专利代理机构 哈尔滨市松花江联合专利商 标代理有限公司 23213 专利代理师 高志光 (51)Int.Cl. C03C 17/36 (2006.01) 权利要求书3页 说明书12页 附图5页 (54)发明名称 低电场下高储能性能10 μm全无机弛豫型反 铁电厚膜的制备方法 (57)摘要 低电场下高储能性能10 μm全无机弛豫型反 铁电厚膜的制备方法，本发明属于电子功能材料 与器件技术领域，具体涉及低电场下高储能性能 10 μm全无机弛豫型反铁电厚膜的制备方法。本 发明要解决当前小型化、集约化、轻质化厚膜型 电介质储能电容器所面临的驱动电场较高，储能 密度及总能量存储量较低，制备工艺复杂，实际 应用中稳定性较差的问题。方法 ：共沉淀法制备 粉体，采用聚多巴胺对陶瓷粉表面改性后混入溶 胶体形成悬浊液，采用改进的溶胶粉末法，获得 厚度为10 μm的全无机弛豫型反铁电厚膜。所制 A 备的无机介电厚膜在低电场下呈现出超高的储 4 能性能，还具有优异的温度、频率、疲劳循环稳定 1 2 3 性，对于高性能先进脉冲电力系统的应用极其重 1 8