一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288352 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202211670386.8 (22)申请日 2022.12.25 (71)申请人 湖北兴福电子材料股份有限公司 地址 443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大 道66-3号 (72)发明人 彭浩　尹印　贺兆波　万杨阳　 张庭　余迪　王亮　胡力　 (74)专利代理机构 宜昌市三峡专利事务所 42103 专利代理师 成钢 (51)Int.Cl. C23F 1/26 (2006.01) C23F 1/44 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 (54)发明名称 一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻液及其制备方法 (57)摘要 本发明具体涉及一种TiN和Ti金属薄膜蚀刻 液及其制备方法。所述的蚀刻液的组成主要包括 氧化剂、稳定剂、铵盐、助氧剂、表面活性剂和醋 酸。该蚀刻液利用氧化剂将TiN和Ti氧化形成氧 化物而被蚀刻；铵盐作为缓蚀剂可以与金属离子 进行络合 ；无机酸或有机酸作为次氧化剂，既增 加氧化剂的氧化性又提供了足够的氢离子，使氧 化剂的浓度维持在较高的水平，维持蚀刻速率稳 定，延长蚀刻液的使用/储存寿命；表面活性剂可 以降低溶液表面张力，促进TiN和Ti的蚀刻均匀 性和完整性。按照本发明的方法使用该蚀刻液能 够保证TiN金属薄膜和Ti金属薄膜的蚀刻速率基 A 本一致 （二者蚀刻速率差值≤17Å/min）。