发明

一种提高取向硅钢层间电阻的设备及工艺方法2025

2023-12-08 07:13:02 发布于四川 9
  • 申请专利号:CN202311105095.9
  • 公开(公告)日:2025-08-19
  • 公开(公告)号:CN117144283A
  • 申请人:无锡普天铁心股份有限公司|||安庆新普电气设备有限公司
摘要:本发明公开了一种提高取向硅钢层间电阻的设备及工艺方法。本发明所述设备为涂层修复炉,所述涂层修复炉包括多层炉辊,以及设置于同一层相邻炉辊中间的辐射管;还包括入炉口、出炉口、炉壁、炉辊、辐射管;入炉口与出炉口相对设置于炉体的侧壁上。本发明的涂层修复炉采用多层结构,在极小的产线长度条件下,既保证了热处理时间,又保证了产线速度,多层结构缩短了产线长度,同时取向硅钢的往复行进方式使得加热热量得到了充分的利用。本发明所述方法有效提高取向硅钢的层间电阻,通过设备与工艺的协同有效改善了取向硅钢表面的绝缘层质量,从而显著提升取向硅钢的表面电阻。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117144283 A (43)申请公布日 2023.12.01 (21)申请号 202311105095.9 (22)申请日 2023.08.29 (71)申请人 无锡普天铁心股份有限公司 地址 214192 江苏省无锡市锡山区锡北镇 张泾工业集中区 申请人 安庆新普电气设备有限公司 (72)发明人 王琦 闫成亮 陈德顺 王靖鸿  王辉 王佳伟  (74)专利代理机构 无锡华源专利商标事务所 (普通合伙) 32228 专利代理师 冯智文 (51)Int.Cl. C23C 8/10 (2006.01) H01F 41/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图3页 (54)发明名称 一种提高取向硅钢层间电阻的设备及工艺 方法 (57)摘要 本发明公开了一种提高取向硅钢层间电阻 的设备及工艺方法。本发明所述设备为涂层修复 炉,所述涂层修复炉包括多层炉辊,以及设置于 同一层相邻炉辊中间的辐射管;还包括入炉口、 出炉口、炉壁、炉辊、辐射管;入炉口与出炉口相 对设置于炉体的侧壁上。本发明的涂层修复炉采 用多层结构,在极小的产线长度条件下,既保证 了热处理时间,又保证了产线速度,多层结构缩 短了产线长度,同时取向硅钢的往复行进方式使 得加热热量得到了充分的利用。本发明所述方法 有效提高取向硅钢的层间电阻,通过设备与工艺 A 的协同有效改善了取向硅钢表面的绝缘层质量,

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