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一种耐高温消光母粒及其制备方法和应用2024

2024-04-16 07:29:22 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202410264599.3
  • 公开(公告)日:2024-04-12
  • 公开(公告)号:CN117866335A
  • 申请人:汕头市贝斯特科技有限公司
摘要:本发明涉及塑料加工技术领域,具体的涉及一种耐高温消光母粒及其制备方法和应用。消光母粒的制备原料按照质量份数计包括:50‑120份高分子化合物,1‑10份相容剂,0.1‑1份抗氧剂,0.1‑1份分散剂,消光母粒的熔点根据DSC法测得不小于140℃。本发明制备得到的消光母粒有较高的熔融指数,应用在消光薄膜的制备中,可以有效地提高其热封温度,消光薄膜有更优异的耐温性能,并且光泽度更低,消光细腻度更高,有更好的实际使用效果和更大的应用范围。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117866335 A (43)申请公布日 2024.04.12 (21)申请号 202410264599.3 C08L 25/06 (2006.01) C08L 23/06 (2006.01) (22)申请日 2024.03.08 C08L 51/06 (2006.01) (71)申请人 汕头市贝斯特科技有限公司 地址 515000 广东省汕头市龙湖区万吉北 街7号二楼 (72)发明人 刘小珊 杨波 王微微 谭雨晴  陈嘉欣  (74)专利代理机构 上海微策知识产权代理事务 所(普通合伙) 31333 专利代理师 薛成 (51)Int.Cl. C08L 23/12 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01) C08J 3/22 (2006.01) C08L 67/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 一种耐高温消光母粒及其制备方法和应用 (57)摘要 本发明涉及塑料加工技术领域,具体的涉及 一种耐高温消光母粒及其制备方法和应用。消光 母粒的制备原料按照质量份数计包括:50‑120份 高分子化合物,1‑10份相容剂,

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