发明

一种生产多孔铜箔的装置及其使用方法2023

2023-10-26 07:28:28 发布于四川 7
  • 申请专利号:CN202310044512.7
  • 公开(公告)日:2023-10-24
  • 公开(公告)号:CN115928159A
  • 申请人:灵宝宝鑫电子科技有限公司
摘要:本发明公开了一种生产多孔铜箔的装置及其使用方法,涉及到铜箔生产技术领域,包括电解池,所述电解池的顶端中部设有清理组件,所述电解池的顶部两侧分别设置有涂覆组件和剥离组件,所述电解池包括池体,所述清理组件包括设于池体顶端中部的安装架,所述安装架的两侧分别通过支架活动连接有废料盒,本发明解决了传统的部分电解铜箔工艺在实际应用过程中,零部件表面会残留有铜箔残渣和氧化膜,难以保证铜箔与阴极辊接触面的平整度,进而影响后续铜箔的制备工作的问题,此外,还解决了现有的部分用于生产铜箔的装置虽然设有清理铜箔残渣和氧化膜的结构组件,但是长时间使用后,零部件容易发生堵塞,影响清理效果的问题。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115928159 A (43)申请公布日 2023.04.07 (21)申请号 202310044512.7 (22)申请日 2023.01.30 (71)申请人 灵宝宝鑫电子科技有限公司 地址 472501 河南省三门峡市灵宝市城东 产业园经一路与纬三路交叉口西北角 (72)发明人 王斌 杨锋 李会东 王建智  黄建权 段晓翼 裴晓哲  (74)专利代理机构 郑州大豫知识产权代理事务 所(普通合伙) 41214 专利代理师 文生明 (51)Int.Cl. C25D 1/04 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 (54)发明名称 一种生产多孔铜箔的装置及其使用方法 (57)摘要 本发明公开了一种生产多孔铜箔的装置及 其使用方法,涉及到铜箔生产技术领域,包括电 解池,所述电解池的顶端中部设有清理组件,所 述电解池的顶部两侧分别设置有涂覆组件和剥 离组件,所述电解池包括池体,所述清理组件包 括设于池体顶端中部的安装架,所述安装架的两 侧分别通过支架活动连接有废料盒,本发明解决 了传统的部分电解铜箔工艺在实际应用过程中, 零部件表面会残留有铜箔残渣和氧化膜,难以保 证铜箔与阴极辊接触面的平整度,进而影响后续 铜箔的制备工作的问题,此外,还解决了现有的 部分用于生产铜箔的装置虽然设有清理铜箔残 A 渣和氧化膜的结构组件,但是长时间使用后,零 9 部件容易发生堵塞,影响清理效果的问题。 5

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