发明

一种基于有机磷配体的纳米晶体在光学图案化中的应用2024

2024-01-26 08:28:00 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202311132211.6
  • 公开(公告)日:2024-10-01
  • 公开(公告)号:CN117420729A
  • 申请人:南京大学
摘要:本发明属于纳米材料图案化方法技术领域,特别涉及一种基于有机磷配体的纳米晶体在光学图案化中的应用,本发明通过引入含磷基团的有机分子作为光敏配体,将纳米晶体转变为光敏涂料,实现直接图案化;本发明解决了在完成图案化的过程中有效降低纳米晶体性能损失的问题,且具有以下几点优势:1)高度的区域/立体专一性;2)光敏区间可调,适用于DUV,i‑line和h‑line光源光刻;3)具有高的反应灵敏度,需要极低的曝光剂量;4)对环境不敏感,可在空气氛中操作,反应条件温和,易于操作;本发明的工艺有望在电致及光致发光量子点显示器领域纳米晶体的商业化中得到应用。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117420729 A (43)申请公布日 2024.01.19 (21)申请号 202311132211.6 (22)申请日 2023.09.05 (71)申请人 南京大学 地址 210023 江苏省南京市栖霞区仙林大 道163号 (72)发明人 王元元 管杰 马建行  肖鹏伟  (74)专利代理机构 南京众联专利代理有限公司 32206 专利代理师 卢倩 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种基于有机磷配体的纳米晶体无胶光刻 方法 (57)摘要 本发明属于纳米材料图案化方法技术领域, 特别涉及一种基于有机磷配体的纳米晶体无胶 光刻方法,本发明通过引入含磷基团的有机分子 作为光敏配体,将纳米晶体转变为光敏涂料,实 现直接图案化;本发明解决了在完成图案化的过 程中有效降低纳米晶体性能损失的问题,且具有 以下几点优势:1)高度的区域/立体专一性;2)光 敏区间可调,适用于DUV,i‑line和h‑line光源光 刻;3)具有高的反应灵敏度,需要极低的曝光剂 量;4)对环境不敏感,可在空气氛中操作,反应条 件温和,易于操作;本发明的工艺有望在电致及 A 光致发光量子点显示器领域纳米晶体的商业化 9 中得到应用。 2 7 0 2 4 7 1 1 N C CN 11

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