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发明

一种高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法2025

2024-03-02 07:13:57 发布于四川 169
  • 申请专利号：CN202311511046.5
  • 公开（公告）日：2025-12-26
  • 公开（公告）号：CN117567039A
  • 申请人：北京工业大学
摘要：一种具有高透光率、低雾度、超疏水的SiO2薄膜制备方法，属于功能薄膜技术领域。包括如下步骤：使用碱催化法制备SiO2溶胶；将SiO2溶胶与四氢呋喃混合，依次加入硅烷偶联剂、道康宁光学胶溶液，分别在透明有机玻璃和硅酸盐玻璃上镀膜，室温干燥固化；将含薄膜的玻璃与全氟硅烷共同置于密闭容器中，在一定温度、时间下使全氟硅烷蒸到薄膜表面进行氟化处理，得到兼顾高透光率、低雾度、超疏水、结合牢固的SiO2薄膜。多方面策略的巧妙协调是实现本发明目的的重要因素。本发明提供的制备方法原料廉价、无需高温热处理、操作工艺简便，适用于大尺寸异形件镀膜，可应用在各种透明基底上，维持室内外环境中的长时间高透视场景。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117567039 A (43)申请公布日 2024.02.20 (21)申请号 202311511046.5 (22)申请日 2023.11.13 (71)申请人 北京工业大学 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号 (72)发明人 李永利　牛雷　陈树群　王金淑　 吴俊书　马树腾　 (74)专利代理机构 北京思海天达知识产权代理 有限公司 11203 专利代理师 张立改 (51)Int.Cl. C03C 17/00 (2006.01) C08J 7/04 (2020.01) C08J 7/12 (2006.01) C08L 33/12 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图6页 (54)发明名称 一种高透光率、低雾度、超疏水的SiO 薄膜 2 制备方法 (57)摘要 一种具有高透光率、低雾度、超疏水的SiO2 薄膜制备方法，属于功能薄膜技术领域。包括如 下步骤：使用碱催化法制备SiO 溶胶；将SiO 溶 2 2 胶与四氢呋喃混合，依次加入硅烷偶联剂、道康 宁光学胶溶液，分别在透明有机玻璃和硅酸盐玻 璃上镀膜，室温干燥固化；将含薄膜的玻璃与全 氟硅烷共同置于密闭容器中，在一定温度、时间 下使全氟硅烷蒸到薄膜表面进行氟化处理，得到 兼顾高透

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