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PCT发明

含二氧化钛的钌化学机械抛光浆料

2023-05-14 10:03:00 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202180058091.2
  • 公开（公告）日：2024-07-12
  • 公开（公告）号：CN116057141A
  • 申请人：CMC材料有限责任公司
摘要：用于抛光含钌基板的化学机械抛光组合物，其包含以下、由以下组成、或基本上由以下组成：基于水的液体载剂；分散于该液体载剂中的钛氧化物颗粒，该钛氧化物颗粒包括金红石及锐钛矿，使得该钛氧化物颗粒的x射线衍射图样具有大于约0.05的X:Y比率，其中X表示在该具有约3.24的d‑间距的x射线衍射图样中的峰强度且Y表示在该具有约3.51的d‑间距的x射线衍射图样中的峰强度；且pH在约7至约10的范围内。任选的实施方式进一步包括具有介于约6至约9范围内的pKa的pH缓冲剂。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116057141 A (43)申请公布日 2023.05.02 (21)申请号 202180058091.2 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 (22)申请日 2021.08.02 专利代理师 邢岳 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 63/060,262 2020.08.03 US C09G 1/02 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.02.02 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2021/044179 2021.08.02 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/031601 EN 2022.02.10 (71)申请人 CMC材料股份有限公司 地址 美国伊利诺伊州 (72)发明人 J-H ·张　柯政远　 权利要求书2页 说明书12页 附图1页 (54)发明名称 含二氧化钛的钌化学机械抛光浆料 (57)摘要 用于抛光含钌基板的化学机械抛光组合物， 其包含以下、由以

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