发明

一种单真空辊底式保护气氛热处理设备及其工艺

2023-06-14 13:05:15 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202010061011.6
  • 公开(公告)日:2024-11-26
  • 公开(公告)号:CN113136482A
  • 申请人:天津阿瑞斯工业炉有限公司
摘要:本发明提供一种单真空辊底式保护气氛热处理设备及其工艺,沿物料运输方向依次包括预处理单元、热处理单元和后处理单元,工作时,所述预处理单元和所述热处理单元均在真空条件下通保护气进行;所述后处理单元是在密封空间内进行。本发明的有益效果是结构设计简单且合理,生产维护成本低,易于控制,不仅可获得更好的物料表面的脱碳层,而且可避免在出口段中的辊面结瘤,保证后处理单元中设备运行的稳定性,新增脱碳深度可达到0.04mm。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113136482 A (43)申请公布日 2021.07.20 (21)申请号 202010061011.6 C21D 11/00(2006.01) (22)申请日 2020.01.19 (71)申请人 天津阿瑞斯工业炉有限公司 地址 300384 天津市滨海新区华苑产业区 海泰发展六道6号海泰绿色产业基地 K1-5-301 (72)发明人 苏和 谢广林 杨建宁 徐文忠  (74)专利代理机构 天津诺德知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 12213 代理人 栾志超 (51)Int.Cl. C21D 1/74(2006.01) C21D 1/773(2006.01) C21D 3/04(2006.01) C21D 9/00(2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图3页 (54)发明名称 一种单真空辊底式保护气氛热处理设备及 其工艺 (57)摘要 本发明提供一种单真空辊底式保护气氛热 处理设备及其工艺,沿物料运输方向依次包括预 处理单元、热处理单元和后处理单元,工作时,所 述预处理单元和所述热处理单元均在真空条件 下通保护气进行;所述后处理单元是在密封空间 内进行。本发明的有益效果是结构设计简单且合 理,

最新专利