ALD喷淋组件及ALD镀膜设备

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113106421 A (43)申请公布日 2021.07.13 (21)申请号 202110317891.3 (22)申请日 2021.03.25 (71)申请人 江苏微导纳米科技股份有限公司 地址 214000 江苏省无锡市新吴区漓江路 11号 (72)发明人 黎微明　李翔　周芸福　王新征　 许所昌　 (74)专利代理机构 广州华进联合专利商标代理 有限公司 44224 代理人 张丹 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图4页 (54)发明名称 ALD喷淋组件及ALD镀膜设备 (57)摘要 本发明涉及一种ALD喷淋组件，包括基板、盖 板及第一进气件。盖板密封连接于基板且覆盖开 口，待加工件放置于反应腔内，反应气体从第一 进气孔进入进气腔后，进气腔会提供给反应气体 一个缓冲空间，经过进气腔缓冲后的气体分布更 加均匀。同时，从第一出气口排出的反应气体通 过多个第一连通孔进入反应腔，进一步地提高了 进入反应腔内的反应气体的均匀性，从而确保了 反应腔内的反应气体与待加工件之间的接触更 加均匀，使得最终反应气体在待加工件上生成的 薄膜更加均匀，提高了薄膜的质量。本发明还涉 及一种ALD镀膜设备。 A 1 2 4 6 0 1 3 1 1 N C CN 113106421 A 权　利　要