一种排驱用的非离子双子表面活性剂及其制备方法、以及一种纳米乳液排驱剂及其制备方法2025
- 申请专利号:CN202311512130.9
- 公开(公告)日:2025-12-12
- 公开(公告)号:CN117887438A
- 申请人:四川川庆井下科技有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117887438 A (43)申请公布日 2024.04.16 (21)申请号 202311512130.9 C07C 213/02 (2006.01) C07C 217/08 (2006.01) (22)申请日 2023.11.14 (71)申请人 四川川庆井下科技有限公司 地址 618300 四川省德阳市广汉市三水镇 高店村 (72)发明人 蒋琪 杨立 张恒 孙亚东 王鹏祥 李嘉 张晓虎 陈星宇 吴安林 李建忠 (74)专利代理机构 成都立新致创知识产权代理 事务所 (特殊普通合伙) 51277 专利代理师 罗江 (51)Int.Cl. C09K 8/584 (2006.01) C09K 8/58 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 (54)发明名称 一种排驱用的非离子双子表面活性剂及其 制备方法、以及一种纳米乳液排驱剂及其制备方 法 (57)摘要 本发明公开了一种排驱用的非离子双子表 面活性剂及其制备方法、以及一种纳米乳液排驱 剂及其制备方法,所述纳米乳液排驱剂包括以下 重量份原料:20 ~35份的表面活性剂;1~10份的 纳米材料;5 ~10份的分散剂;15 ~20份的稳定
原创力.专利