一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115010367 A (43)申请公布日 2022.09.06 (21)申请号 202210582004.X (22)申请日 2022.05.26 (71)申请人 蒙娜丽莎集团股份有限公司 地址 528211 广东省佛山市南海区西樵轻 纺城工业园 (72)发明人 刘一军　汪庆刚　庞伟科　杨元东　 邓来福　潘岳　 (74)专利代理机构 上海瀚桥专利代理事务所 (普通合伙) 31261 专利代理师 曹芳玲　郑优丽 (51)Int.Cl. C03C 8/02 (2006.01) C03C 8/14 (2006.01) C04B 41/89 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图2页 (54)发明名称 一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶 釉的艺术岩板及制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种低温快烧全抛结晶釉、包含 该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法，属于陶瓷 建材领域。所述低温快烧全抛结晶釉的原料组成 包括：以质量百分比计，结晶抛釉90‑99%，引晶干 粒0.5‑5.0%，熔块0.5‑5.0%；所述引晶干粒的化 学组成包括：以质量百分比计，Na O：5.0‑8.0%； 2 SiO ：20‑40%；Al O ：5.0‑10%；ZnO：30‑60%；TiO ： 2 2 3