光掩模的修正方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113721419 A (43)申请公布日 2021.11.30 (21)申请号 202110571824.4 (22)申请日 2021.05.25 (30)优先权数据 2020-090750 2020.05.25 JP (71)申请人 株式会社SK电子 地址 日本京都府 (72)发明人 齐藤隆史　上南亮太　 (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限 公司 11322 代理人 龙淳　刘芃茜 (51)Int.Cl. G03F 1/78 (2012.01) G03F 1/26 (2012.01) 权利要求书1页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 光掩模的修正方法 (57)摘要 本发明的课题在于提供良好地修正相移光 掩模的相移膜的白缺陷的方法。本发明的光掩模 的修正方法，其是具备由相移膜构成的相移图案 的光掩模的修正方法，包括：取得修正膜的光学 特性的膜厚依赖性的步骤；为了使得从由修正膜 构成的图案和相移图案转印的光致抗蚀剂的形 状一致，而求出由修正膜构成的图案的修正量的 修正膜厚依赖性的步骤；当在光掩模的相移图案 中检出白缺陷的情况下，确定所检出的各白缺陷 的位置的步骤；对应各白缺陷确定修正膜的膜厚 及修正膜的图案的修正量的步骤；以及在包含各 白缺陷的区域形成修正膜的步骤。 A 9 1 4 1 2 7 3 1 1 N C CN 113721419 A