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PCT发明

内壁构件的再生方法

2023-06-07 22:56:25 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202180008331.8
  • 公开（公告）日：2024-11-01
  • 公开（公告）号：CN115803469A
  • 申请人：株式会社日立高新技术
摘要：设于进行等离子处理的处理室的内壁的内壁构件(40)具备：基材(41)；具有端部(EP1)的阳极氧化膜(42a)；和具有端部(EP2)的喷镀膜(42b)。基材(41)具有表面(FS1)、位于比表面(FS1)高的位置的表面(FS2)以及侧面(SS1)。内壁构件(40)的再生方法具有如下工序：(a)将从喷镀膜(42b)露出的阳极氧化膜(42a)用掩蔽件(100)覆盖；(b)通过对喷镀膜(42b)进行喷砂处理，来除去表面(FS2)上的喷镀膜(42b)，留下表面(FS1)上以及侧面(SS1)上的喷镀膜(42b)的一部分，以使得未被掩蔽件(100)覆盖的阳极氧化膜(42a)被喷镀膜(42b)覆盖；(c)在留下的喷镀膜(42b)上以及表面(FS2)上通过喷镀法形成新的喷镀膜(42b)；(d)将掩蔽件(100)拆下。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115803469 A (43)申请公布日 2023.03.14 (21)申请号 202180008331.8 (51)Int.Cl. C23C 4/02 (2006.01) (22)申请日 2021.06.28 H01L 21/3065 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2022.07.05 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/024419 2021.06.28 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2023/275958 JA 2023.01.05 (71)申请人 株式会社日立高新技术 地址 日本东京都 (72)发明人 水无翔一郎　川口忠义　渡部拓　 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 专利代理师 吴秋明 权利要求书2页 说明书10页 附图7页 (54)发明名称 内壁构件的再生方法 (57)摘要 设于进行等离子处理的处理室的内壁的内 壁构件(40)具备：基材(41)；具有端部(EP1)的阳 极氧化膜(42a)；和具有端部(EP2)的喷镀膜 (42b)。基材(41)具有表面(FS1)、位于比表面 (FS1)高的位置的表面(FS2

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