一种MAX相涂层的低温制备方法及其应用
- 申请专利号:CN202211603528.9
- 公开(公告)日:2024-10-29
- 公开(公告)号:CN116219381A
- 申请人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116219381 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202211603528.9 (22)申请日 2022.12.13 (71)申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研 究所 地址 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大 道519号 (72)发明人 汪爱英 周广学 王振玉 陈仁德 王丽 (74)专利代理机构 南京利丰知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 32256 专利代理师 何胜男 王锋 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 14/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图9页 (54)发明名称 一种MAX相涂层的低温制备方法及其应用 (57)摘要 本发明公开了一种MAX相涂层的低温制备方 法及其应用。所述低温制备方法包括:提供基体; 以及,采用直流磁控溅射复合双靶高功率脉冲磁 控溅射技术,在所述基体表面沉积形成MAX相涂 层;其中,所述直流磁控溅射技术中采用的靶材 为Al靶,所述双靶高功率脉冲磁控溅射技术中采 用的双靶靶材分别为金属靶和C靶,所述金属靶 选自Ti靶、Cr靶或V靶,且金属靶、C靶、Al靶中任 意两靶之间的磁场为磁铁极性相反的闭合磁场 或磁铁极性相同的镜面磁场;沉积温度为350~ 500℃。本发明