发明

氧化镓晶体生长方法及生长氧化镓晶体的组合坩埚

2023-05-10 10:29:24 发布于四川 20
  • 申请专利号:CN202111069487.5
  • 公开(公告)日:2023-05-02
  • 公开(公告)号:CN113774484A
  • 申请人:杭州镓仁半导体有限公司
摘要:本发明提供了一种氧化镓晶体生长方法及生长氧化镓晶体的组合坩埚,涉及氧化镓晶体生长的技术领域,通过采用组合坩埚来制备氧化镓晶体,使氧化镓熔体和铱金坩埚不直接接触,避免铱元素进入氧化镓熔体从而影响氧化镓晶体质量的问题,通过抽空炉内原本气体并充入保护性气体来抑制氧化镓的高温分解,同时也解决了采用铱金坩埚进行氧化镓晶体生长时,坩埚的侧壁和底部会出现密集腐蚀坑,导致铱金坩埚损耗严重的问题,最后制得的氧化镓单晶呈透明状,无明显开裂和气泡,相比采用现有方法制得的氧化镓单晶具有较高的晶体结晶质量的优点。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113774484 A (43)申请公布日 2021.12.10 (21)申请号 202111069487.5 (22)申请日 2021.09.13 (71)申请人 浙江大学杭州国际科创中心 地址 310000 浙江省杭州市萧山区市心北 路99号5楼 (72)发明人 张辉 马可可 夏宁 王嘉斌  刘莹莹 杨德仁  (74)专利代理机构 杭州五洲普华专利代理事务 所(特殊普通合伙) 33260 代理人 姚宇吉 (51)Int.Cl. C30B 29/16 (2006.01) C30B 15/12 (2006.01) C30B 17/00 (2006.01) C30B 11/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图1页 (54)发明名称 氧化镓晶体生长方法及生长氧化镓晶体的 组合坩埚 (57)摘要 本发明提供了一种氧化镓晶体生长方法及 生长氧化镓晶体的组合坩埚,涉及氧化镓晶体生 长的技术领域,通过采用组合坩埚来制备氧化镓 晶体,使氧化镓熔体和铱金坩埚不直接接触,避 免铱元素进入氧化镓熔体从而影响氧化镓晶体 质量的问题,通过抽空炉内原本气体并充入保护 性气体来抑制氧化镓的高温分解,同时也解决了 采用铱金坩埚进行氧化镓晶体生长时,坩埚的侧 壁和底部会出现密集腐蚀坑,导致铱金坩埚损耗 严重的问题,最后制得的氧化镓单晶呈透明状,

最新专利