双向镀膜阴极机构、镀膜生产线和双向镀膜方法2024

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118086852 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410516531.X (22)申请日 2024.04.28 (71)申请人 苏州维克优真空技术有限公司 地址 215000 江苏省苏州市吴中区南官渡 路521号3幢6楼611室 (72)发明人 请求不公布姓名　请求不公布姓名　 (74)专利代理机构 苏州佳捷天诚知识产权代理 事务所(普通合伙) 32516 专利代理师 陈婧烨 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) 权利要求书3页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 双向镀膜阴极机构、镀膜生产线和双向镀膜 方法 (57)摘要 本发明公开了双向镀膜阴极机构、镀膜生产 线和双向镀膜方法，包括靶筒，所述靶筒内部设 置有隔离支撑机构，所述隔离支撑机构中部设置 有冷却轴，所述冷却轴一端为冷却水入口，所述 冷却轴另一端为冷却水出口；所述隔离支撑机构 两侧分别对称设置有第一磁铁阵列组件和第二 磁铁阵列组件，所述靶筒一侧设置有用于驱动靶 筒做旋转运动的旋转驱动机构，本技术方案是将 作为旋转磁控溅射用的磁棒，在两个方向上分别 排列磁铁，形成两个环形的电磁场正交的区域， 磁控溅射将同时向两个方向进行镀膜。比如同时 A 可以向旋转靶材的上方与下方进行镀膜，设备的 2 产能就可提高一倍，同时靶材的收集率也将更 5 8 6