光学邻近修正方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114326290 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202210006263.8 (22)申请日 2022.01.04 (71)申请人 华虹半导体（无锡）有限公司 地址 214028 江苏省无锡市新吴区新洲路 30号 (72)发明人 邓慧芳　王函　 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 张瑞　徐文欣 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图5页 (54)发明名称 光学邻近修正方法 (57)摘要 一种光学邻近修正方法，包括：提供初始图 形，初始图形具有垂直的第一部和第二部，第一 部具有相平行的第一外边和第一内边；根据曝光 参量获取最佳分段长度范围；在最佳分段长度范 围内根据采样步长获取若干采样长度；对第一外 边和第一内边进行分段处理，获取第一边缘段、 第二边缘段和若干中间段；采用若干采样长度对 第一边缘段、第二边缘段和中间段的进行全排列 组合赋值，获取初始图形对应的若干种初始分割 图形；获取对应的第一曝光图形；获取每条线段 对应的放置边缘误差；根据每种放置边缘误差， 获取分割图形。通过对初始版图进行了若干种的 A 分割方案，并通过最终的筛选得到初始版图的最 0 佳分段搭配，克服了经过修正曝光后的图形线端 9 2 6 缩头严重的问题。 2 3 4 1 1 N C CN 1143