清洁装置、清洁腔室及其控制方法、半导体工艺设备2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117431522 A (43)申请公布日 2024.01.23 (21)申请号 202311405984.7 (22)申请日 2023.10.26 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司 地址 100176 北京市大兴区经济技术开发 区文昌大道8号 (72)发明人 胡伟杰　 (74)专利代理机构 北京国昊天诚知识产权代理 有限公司 11315 专利代理师 施敬勃 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) H01L 21/67 (2006.01) 权利要求书3页 说明书13页 附图5页 (54)发明名称 清洁装置、清洁腔室及其控制方法、半导体 工艺设备 (57)摘要 本申请公开一种清洁装置。所公开的清洁装 置包括箱体(10)、冷凝部(20)、加热器(30)和承 载座(40)，箱体(10)具有容置空间(13)，冷凝部 (20)和承载座(40)均位于容置空间(13)中，且冷 凝部(20)位于承载座(40)的上方；承载座(40)用 于承载待清洁物(50)；加热器(30)用于加热被放 置于承载座(40)上的待清洁物(50)，以使待清洁 物(50)的表面的沉积物升华后凝结在冷凝部 (20)上。本申请还公开一种清洁腔