一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法2025
- 申请专利号:CN202311254284.2
- 公开(公告)日:2025-09-05
- 公开(公告)号:CN117323310A
- 申请人:华中科技大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117323310 A (43)申请公布日 2024.01.02 (21)申请号 202311254284.2 A61P 17/02 (2006.01) C08G 77/44 (2006.01) (22)申请日 2023.09.26 (71)申请人 华中科技大学 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路 1037号 (72)发明人 朱锦涛 李文琴 陈森斌 (74)专利代理机构 华中科技大学专利中心 42201 专利代理师 孙杨柳 (51)Int.Cl. A61K 9/70 (2006.01) A61K 47/34 (2017.01) A61K 47/38 (2006.01) A61K 47/04 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 一种镇定消炎聚合物薄膜及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种镇定消炎聚合物薄膜及其 制备方法,属于生物材料技术领域。制备方法为: 将第一聚二甲基硅氧烷、第二聚二甲基硅氧烷和 第三聚二甲基硅氧烷、镇定消炎活性成分、水、乳 化剂、防腐剂和增稠剂混合均匀,得到乳液;向该 乳液中加入气相二氧化硅,形成共混物;再逐滴 加入pH调节剂;将羟
原创力.专利