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发明

一种高强度低膨胀系数因瓦合金及其制造方法2024

2024-01-08 07:15:59 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202311333715.4
  • 公开（公告）日：2024-09-27
  • 公开（公告）号：CN117344244A
  • 申请人：中国机械总院集团沈阳铸造研究所有限公司
摘要：本发明公开了一种高强度低膨胀系数因瓦合金。该因瓦合金各组分重量百分比为：Mo：0.5～1.5；Cr：0.5～1.5；Y：0.5；S≤0.005；P≤0.005；C≤0.05；Si≤0.03；Mn：0.01～0.02；Ni：35.0～37.0，余量为Fe。本发明还公开了一种高强度低膨胀系数因瓦合金的制造方法。通过刚玉粉料制备、型壳面层制备、型壳加固层制备、型壳脱蜡与焙烧、熔炼与浇注工艺获得。其中，制备型壳面层的刚玉粉料通过喷雾造粒的方式制备，氧化铝粉料成分比例为：1～1.5％硅微粉，1～1.5％氧化锆，0～0.5％滑石，余量氧化铝粉。氧化铝浆料成分比例为上述氧化铝粉及10～15％聚乙烯醇水溶液，0.1～0.3％消泡剂，0.5～2.5润滑剂，0.2～1.0％分散剂，经喷雾造粒制备的粉末尺寸为50～80μm。本发明因瓦合金具有高强度、低膨胀系数特点，其制造方法能有效提高合金力学性能。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117344244 A (43)申请公布日 2024.01.05 (21)申请号 202311333715.4 B22C 1/00 (2006.01) B22C 1/18 (2006.01) (22)申请日 2023.10.16 B22C 9/04 (2006.01) (71)申请人 中国机械总院集团沈阳铸造研究所 有限公司 地址 110022 辽宁省沈阳市铁西区云峰南 街17号 (72)发明人 史昆　刘时兵　刘天翼　刘泊良　 王伟龙　李重阳　刘宏宇　 (74)专利代理机构 北京路胜元知识产权代理事 务所(特殊普通合伙) 11669 专利代理师 路兆强　段明升 (51)Int.Cl. C22C 38/44 (2006.01) C22C 38/02 (2006.01) C22C 38/04 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 一种高强度低膨胀系数因瓦合金及其制造 方法 (57)摘要 本发明公开了一种高强度低膨胀系数因瓦 合金。该因瓦合金各组分重量百分比为：Mo ：0.5 ～1 .5 ；Cr ：0 .

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