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PCT发明

表面处理装置及表面处理方法

2023-06-25 07:08:18 发布于四川 2
  • 申请专利号：CN202180057590.X
  • 公开（公告）日：2025-05-27
  • 公开（公告）号：CN116324012A
  • 申请人：芝浦机械株式会社
摘要：表面处理装置(10)其被处理件输送部(40)(配送机构)将载置有被处理件(W)的工作台(31、32)(载置机构)收容到腔室(20)(收容单元)中。接着，工作台旋转轴(31b、32b)(旋转机构)和安装部件旋转轴(31c、32c)(旋转机构)在将被处理件载置部(30)收容在腔室中的状态下使被处理件(W)以规定的旋转样式旋转到与等离子生成装置(21)(表面处理机构)或溅镀装置(22、23)(表面处理机构)对置的朝向。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116324012 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202180057590.X (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 (22)申请日 2021.07.12 专利代理师 任玉敏 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2020-133192 2020.08.05 JP C23C 14/34 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.02.01 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/026086 2021.07.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/030189 JA 2022.02.10 (71)申请人 芝浦机械株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 小久保光典　福山聪　栗原义明　 难波武志　 权利要求书2页 说明书11页 附图9页 (54)发明名称 表面处理装置及表面处理方法 (57)摘要 表面处理装置 (10

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