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发明

半导体用清洁组合物及其制备方法和半导体清洁方法2024

2024-02-04 07:47:09 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202311339812.4
  • 公开（公告）日：2024-02-02
  • 公开（公告）号：CN117487634A
  • 申请人：长沙艾森设备维护技术有限公司
摘要：本发明提供了半导体用清洁组合物及其制备方法和半导体清洁方法。本发明的半导体用清洁组合物，以质量百分比计，组分包括碱、络合剂、缓蚀剂、表面活性剂和水。本发明的半导体用清洁组合物，能有效去除吸附在半导体晶片表面的油类、松香、石蜡等有机物，具有优异的金属离子、磨料和研磨抛光粉等颗粒物去除性能，对晶片有高清洁度，还有很好的操作安全性。本发明还提供了半导体用清洁组合物的制备方法和半导体清洁方法。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117487634 A (43)申请公布日 2024.02.02 (21)申请号 202311339812.4 C11D 3/20 (2006.01) C11D 3/32 (2006.01) (22)申请日 2023.10.17 C11D 3/60 (2006.01) (71)申请人 长沙艾森设备维护技术有限公司 H01L 21/02 (2006.01) 地址 410000 湖南省长沙市宁乡县金洲新 B08B 3/12 (2006.01) 区银洲北路111号 B08B 3/08 (2006.01) (72)发明人 朱明　 (74)专利代理机构 广州嘉权专利商标事务所有 限公司 44205 专利代理师 马俊 (51)Int.Cl. C11D 3/04 (2006.01) C11D 3/30 (2006.01) C11D 3/28 (2006.01) C11D 3/34 (2006.01) C11D 3/33 (2006.01)

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