一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法
- 申请专利号:CN202310413511.5
- 公开(公告)日:2023-10-03
- 公开(公告)号:CN116219550A
- 申请人:哈尔滨工业大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116219550 A (43)申请公布日 2023.06.06 (21)申请号 202310413511.5 (22)申请日 2023.04.18 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址 150006 黑龙江省哈尔滨市南岗区西 大直街92号 (72)发明人 张甲 任宣羽 葛传洋 李宇阳 (74)专利代理机构 北京和丰君恒知识产权代理 有限公司 11466 专利代理师 苏蓓 (51)Int.Cl. C30B 29/46 (2006.01) C30B 7/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法 (57)摘要 本发明涉及硒氧化铋薄膜制备领域,更具体 的说是一种水热生长硒氧化铋薄膜的方法,使用 水热法制备二维Bi O Se,步骤一:将铋盐溶于加 2 2 入氢氧化钠的水溶液中,加入硝酸钾和硝酸锂形 成溶液A,步骤二 :在氢氧化钠溶液中加入水合 肼,将硒粉溶于其中后形成溶液B,步骤三:将溶 液A和溶液B进行混合 ,转移至聚四氟乙烯内衬 中,步骤四 :将准备好的衬底放入装有A和B混合 溶液的内衬中,装入反应釜;步骤五:将反应釜放 入烘箱,调节温度与时间,步骤六:反应完成后, 取出衬底,使用乙醇、去离子水洗涤,氩气吹干, 可以使用简单方法,绿色安全的批量生产 Bi O Se。 A 2 2 0 5 5
原创力.专利