发明

静电放电保护装置及其布局设计

2023-06-11 12:15:32 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN201911205890.9
  • 公开(公告)日:2024-11-22
  • 公开(公告)号:CN112885828A
  • 申请人:晶豪科技股份有限公司
摘要:本发明涉及一种用于半导体装置的静电放电(ESD)保护装置,其包括栅极、源极以及漏极,所述源极包括具有多个源极接触点的硅化部,所述漏极包括具有多个漏极接触点的硅化部,其中所述源极以及所述漏极沿装置轴线远离所述栅极延伸。所述静电放电保护装置包括电阻保护氧化部,其个别地位于所述多个漏极接触点之间以及所述多个源极接触点之间的所述半导体装置上。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112885828 A (43)申请公布日 2021.06.01 (21)申请号 201911205890.9 (22)申请日 2019.11.29 (71)申请人 晶豪科技股份有限公司 地址 中国台湾新竹市 (72)发明人 汤干绍 林廷叡 周祥明 张芳瑜  (74)专利代理机构 北京国昊天诚知识产权代理 有限公司 11315 代理人 南霆 程爽 (51)Int.Cl. H01L 27/02(2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 静电放电保护装置及其布局设计 (57)摘要 本发明涉及一种用于半导体装置的静电放 电(ESD)保护装置,其包括栅极、源极以及漏极, 所述源极包括具有多个源极接触点的硅化部,所 述漏极包括具有多个漏极接触点的硅化部,其中 所述源极以及所述漏极沿装置轴线远离所述栅 极延伸。所述静电放电保护装置包括电阻保护氧 化部,其个别地位于所述多个漏极接触点之间以 及所述多个源极接触点之间的所述半导体装置 上。 A 8 2 8 5 8 8 2 1 1 N C CN 112885828 A 权 利 要 求 书 1/1页 1.一种用于半导体装置的静电放电保护装置,其具有栅极、源极以及漏极

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