本征黑型聚合物及其制备方法、黑色光刻胶及其应用2023

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117304477 A (43)申请公布日 2023.12.29 (21)申请号 202311358889.6 (22)申请日 2023.10.19 (71)申请人 上海交通大学 地址 200240 上海市闵行区东川路800号 (72)发明人 路庆华　丁永辉　 (74)专利代理机构 上海熠涧知识产权代理有限 公司 31442 专利代理师 樊文娜　林高锋 (51)Int.Cl. C08G 69/32 (2006.01) G03F 7/039 (2006.01) 权利要求书2页 说明书16页 附图1页 (54)发明名称 本征黑型聚合物及其制备方法、黑色光刻胶 及其应用 (57)摘要 本申请公开一种本征黑型聚合物及其制备 方法、黑色光刻胶及其应用，其中所述本征黑型 聚合物通过使二酐单体和醇类物质发生反应并 经过酰氯化得到中间体，然后使所述中间体、第 一二胺单体和第二二胺单体反应制备得到。本申 请所述的本征黑型聚合物应用于黑色光刻胶时 无需外加遮光剂，使得采用该黑色光刻胶兼具优 异的光学性能、机械性能以及电学性能。 A 7 7 4 4 0 3 7 1 1 N C CN 117304477 A 权　利　要　求　书 1/2 页 1.一种本征黑型聚合物，其特征在于，所述本征黑型聚合物的结构式如下： 其中R ～R 分别选自氢