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一种掩膜版图形的修正方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113093472A 申请号：CN202010018891.9一种掩膜版图形的修正方法
- 申请号：CN202010018891.9
- 公开号：CN113093472A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司|||中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
一种掩膜版图形的修正方法，其中，包括：提供目标版图，所述目标版图包括若干主图形；沿第一方向将所述目标版图分为若干第一区；获取每个所述第一区的位置信息；根据每个所述第一区的位置信息获取该第一区的第一模型；根据所述第一模型获取所述第一区内的每个所述主图形周围的辅助图形的图形参数；根据每个所述主图形的辅助图形的图形参数，在每个主图形周围设置所述主图形的辅助图形。所述掩膜版图形的修正方法能够使辅助图形不易被曝光。- 发布时间：2023-06-14 12:39:36
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涂覆有UV胶的元器件的回收方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113050391A 申请号：CN202110291561.1涂覆有UV胶的元器件的回收方法
- 申请号：CN202110291561.1
- 公开号：CN113050391A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：歌尔股份有限公司
本发明提供一种涂覆有UV胶的元器件的回收方法，利用弱碱性溶剂浸泡待回收的涂覆有UV胶的元器件；其中的元器件的表面包覆有由底层包裹材料形成的纳米级薄层，UV胶固化在所述纳米级薄层外；所述弱碱性溶剂用于溶解所述底层包裹材料；然后通过超声清洗去除所述UV胶，以回收所述元器件。利用本发明，能够在不损伤元器件的基础上简单高效的去除元器件表面的UV胶层，提高元器件的利用率。- 发布时间：2023-06-14 12:24:52
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化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN114924463A 申请号：CN202210127488.9化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
- 申请号：CN202210127488.9
- 公开号：CN114924463A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：信越化学工业株式会社
本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获得改善图案形成时的分辨率且减少LER及LWR的图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷(sulfurane)或硒烷(selenurane)化合物，以下式(A1)表示，及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物。式中，M为硫原子或硒原子。- 发布时间：2023-06-18 07:26:11
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有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物 公开日期：2024-09-24 公开号：CN112859516A 申请号：CN202011354547.3有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物
- 申请号：CN202011354547.3
- 公开号：CN112859516A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：信越化学工业株式会社
本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题为提供成膜性优异并能展现高的蚀刻耐性、优异的扭曲耐性、填埋特性的有机膜材料、使用了该有机膜材料的图案形成方法、及适于如此的有机膜材料的聚合物。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材料，是有机膜形成时使用的材料，其含有具有下列通式(1)表示的重复单元的聚合物、及有机溶剂。上述通式(1)中，AR1、AR2为也可以有取代基的苯环或萘环。W1为不具有芳香环的碳数2～20的2价有机基团，构成有机基团的亚甲基也可取代为氧原子或羰基。W2为至少具有1个以上的芳香环的碳数6～80的2价有机基团。- 发布时间：2023-06-11 12:01:27
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定影装置及图像形成装置 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113924529A 申请号：CN201980097266.3定影装置及图像形成装置
- 申请号：CN201980097266.3
- 公开号：CN113924529A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：富士胶片商业创新有限公司
本发明的目的在于提供一种定影装置及图像形成装置，其与由不锈钢构成遮蔽加热单元的遮蔽单元的情况相比，能够节省空间，并且与将不锈钢薄薄地形成到能够被卷取的程度的情况相比，能够提高隔热效果。该定影装置具备：加热单元，其以非接触的方式对沿着输送路径输送的介质进行加热；以及非金属制的遮蔽单元，其形成遮蔽该加热单元的遮蔽状态以及所述加热单元未被遮蔽的非遮蔽状态，并在所述遮蔽状态下展开且在所述展开状态下变形而被收纳。- 发布时间：2023-04-22 09:02:45
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微影装置、安装光罩保护膜的方法及晶圆的制造方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN112305854A 申请号：CN202010741816.5微影装置、安装光罩保护膜的方法及晶圆的制造方法
- 申请号：CN202010741816.5
- 公开号：CN112305854A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司
本揭露提供一种微影装置、安装光罩保护膜的方法及晶圆的制造方法，半导体微影制程的装置包含定义要被转移的电路图案的光罩。装置还包含包括形成在第一表面内的图案的光罩保护膜，其中光罩保护膜的第一表面是贴附至光罩。装置亦包含设置在光罩及第一表面之间的粘着材料层。图案可包含多个毛细管。每一个毛细管在第一表面的平面内具有约1μm至约500μm的尺寸。每一个毛细管的深度对宽度的比例是大于或等于约100。粘着材料层包括粘着剂，且粘着剂的玻璃转化温度(Tg)是大于室温。- 发布时间：2023-05-28 12:42:18
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显影盒 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113110004A 申请号：CN202110222585.1显影盒
- 申请号：CN202110222585.1
- 公开号：CN113110004A
- 公开日期：2024-09-24
- 申请人：兄弟工业株式会社
本发明提供一种显影盒，包括：壳体，能够在所述壳体的内部容纳显影剂；显影辊，能够关于在第一方向上延伸的轴旋转，位于所述壳体的在第二方向上的一侧；存储介质，具有电接触面；以及保持部，能够相对于所述壳体在第一位置与第二位置之间在所述第二方向上与所述电接触面一起移动，所述电接触面位于所述保持部的外表面。- 发布时间：2023-06-14 12:49:31
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静电图像显影用调色剂 公开日期：2024-09-20 公开号：CN114365046A 申请号：CN202080064055.2静电图像显影用调色剂
- 申请号：CN202080064055.2
- 公开号：CN114365046A
- 公开日期：2024-09-20
- 申请人：花王株式会社
一种静电图像显影用调色剂及该调色剂的制造方法，所述静电图像显影用调色剂含有着色剂、树脂组合物(P)和树脂组合物(W)，树脂组合物(P)是使具有酸基的非晶性聚酯系树脂(A)与胺化合物缩合而成的树脂组合物，树脂组合物(W)是使醇成分(W‑al)、羧酸成分(W‑ac)与具有选自羟基和羧基中的至少1个官能团的烃蜡缩合而成的树脂组合物。- 发布时间：2023-05-08 10:26:57
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记录材料冷却装置、成像设备和成像系统 公开日期：2024-09-20 公开号：CN113721440A 申请号：CN202110562306.6记录材料冷却装置、成像设备和成像系统
- 申请号：CN202110562306.6
- 公开号：CN113721440A
- 公开日期：2024-09-20
- 申请人：佳能株式会社
本公开涉及一种记录材料冷却装置，包括带单元，其包括可旋转的环形带、带张紧辊和带冷却构件；可旋转构件，其用于与所述带的外周表面接触以在其自身与所述带之间形成夹持部并且用于在所述夹持部中夹持并进给记录材料；旋转单元，其能够使所述带单元在所述带和所述可旋转构件彼此接触以便形成所述夹持部的接触位置与所述带和所述可旋转构件彼此分离以便释放所述夹持部的分离位置之间旋转；以及风扇单元，其包括用于通过产生经过所述冷却构件的气流来冷却所述冷却构件的风扇，所述风扇单元能够与所述带单元一起旋转。本公开还涉及一种成像设备和成像系统。- 发布时间：2023-07-01 07:18:48
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一种处理盒 公开日期：2024-09-20 公开号：CN112445113A 申请号：CN201910834172.1一种处理盒
- 申请号：CN201910834172.1
- 公开号：CN112445113A
- 公开日期：2024-09-20
- 申请人：江西亿铂电子科技有限公司
本发明涉及一种处理盒，可拆卸的安装至包括主组件接粉部件的电子成像设备中，所述主组件接粉部件包括用于排粉的弹簧以及旋转构件，所述处理盒包括：感光鼓，可在其表面形成静电潜像；齿轮系，安装于所述处理盒的一端；废粉传递组件，可传递从所述感光鼓表面移除的残余显影剂至主组件接粉部件；所述废粉传递组件包括磁体，所述磁体具有磁性并可对所述主组件接粉部件施加磁力。通过上述方案，可保持主组件接粉部件处残余显影剂的流通性，避免了主组件接粉部件处的积粉，影响打印质量。- 发布时间：2023-06-02 12:07:15
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