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• 负型感光性树脂组合物、以及使用其的聚酰亚胺及固化浮雕图案的制造方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN112334833A 申请号：CN201980041387.6
  PCT发明 负型感光性树脂组合物、以及使用其的聚酰亚胺及固化浮雕图案的制造方法

  • 申请号：CN201980041387.6
  • 公开号：CN112334833A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：旭化成株式会社

  提供可得到高的耐化学药品性和分辨率、且在高温保存试验后能够抑制在Cu层的与树脂层接触的界面产生空隙的负型感光性树脂组合物、及使用其的固化浮雕图案的形成方法。提供一种负型感光性树脂组合物，其包含：(A)以下的通式(1)所示的聚酰亚胺前体；(B)包含选自氨基甲酸酯键和脲键中的至少1者的化合物；以及(C)光聚合引发剂。式(1)中，X1、Y1、n1、R1和R2分别在本申请说明书中被定义。

  发布时间：2023-05-28 12:53:01

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• 电子束直写器以及电子束直写系统 公开日期：2024-09-24 公开号：CN117850167A 申请号：CN202311606156.X
  发明 电子束直写器以及电子束直写系统

  • 申请号：CN202311606156.X
  • 公开号：CN117850167A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：上海集成电路材料研究院有限公司

  本发明提供一种电子束直写器以及电子束直写系统，包括：发射调控单元以及X个电子束源发射单元；X为大于等于1的整数；发射调控单元用于产生Y种选通信号，Y为大于等于2的整数；各电子束源发射单元均包括导通信号产生模块、导通信号保持模块以及电子束生成模块；导通信号产生模块的Y个控制端与Y种选通信号一一对应设置；导通信号产生模块用于同时接收到对应的选通信号时产生导通信号；导通信号保持模块接收选通信号，用于延长导通信号的有效时间；电子束生成模块接收延长有效时间的导通信号，在导通信号的有效时间内发射对应的电子束。本发明用于解决电子束直写过程中由于电子束源响应控制指令存在反应时间而导致直写速度慢等问题。

  发布时间：2024-04-11 07:22:43

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• 一种电子束直写装置 公开日期：2024-09-24 公开号：CN117850168A 申请号：CN202311606778.2
  发明 一种电子束直写装置

  • 申请号：CN202311606778.2
  • 公开号：CN117850168A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：上海集成电路材料研究院有限公司

  本发明提供一种电子束直写装置，包括控制模块以及至少一个电子束源输出模块；控制模块用于产生i种控制信号；i为大于等于2的整数；各电子束源输出模块中任一电子束源输出模块在同时接收到i种控制信号时开启，进而发射对应的电子束；其中，各电子束源输出模块均包括接收单元、束流强度调控单元以及输出单元；束流强度调控单元用于提供强度调控信号；各接收单元的i个控制端在同时接收到i种控制信号时产生开启信号；各输出单元基于接收的开启信号以及强度调控信号发射对应的电子束并通过强度调控信号调控电子束的束流强度。本发明有效解决了电子束源阵列中各电子束源的束流强度不一致导致的直写时间不一致，均匀性不一致等问题。

  发布时间：2024-04-11 07:22:43

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• 一种能变更色温的激光投影机光源合成机构 公开日期：2024-09-24 公开号：CN112882331A 申请号：CN202110141581.0
  发明 一种能变更色温的激光投影机光源合成机构

  • 申请号：CN202110141581.0
  • 公开号：CN112882331A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：麦克赛尔数字映像(中国)有限公司

  本发明公开了激光投影机技术领域的一种能变更色温的激光投影机光源合成机构，包括激光二极管，为发出蓝色激光光源；聚光透镜，为聚焦面正对激光二极管的发光路径设置；散光片，为发散光线的镜片，阻挡在激光二极管穿过聚光透镜的光线路径上，面对光源的一侧为透光面，背光的一侧为反光面，能提高目前激光投影机的光源的蓝光转换效率，也使蓝光能容易调整比例来实现不同色温的设定，从而实现所需的激光投影机的光源的色温，保持光源的色温长可靠性的效果，采用蓝光透射和部分蓝色反射在同一反射镜上实现，并可调整蓝光的光量的比例，可以创造出容易变更色温的长寿命超可靠性的激光投影机光源。

  发布时间：2023-06-11 12:22:35

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• 光掩模的修正方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113721419A 申请号：CN202110571824.4
  发明 光掩模的修正方法

  • 申请号：CN202110571824.4
  • 公开号：CN113721419A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：株式会社SK电子

  本发明的课题在于提供良好地修正相移光掩模的相移膜的白缺陷的方法。本发明的光掩模的修正方法，其是具备由相移膜构成的相移图案的光掩模的修正方法，包括：取得修正膜的光学特性的膜厚依赖性的步骤；为了使得从由修正膜构成的图案和相移图案转印的光致抗蚀剂的形状一致，而求出由修正膜构成的图案的修正量的修正膜厚依赖性的步骤；当在光掩模的相移图案中检出白缺陷的情况下，确定所检出的各白缺陷的位置的步骤；对应各白缺陷确定修正膜的膜厚及修正膜的图案的修正量的步骤；以及在包含各白缺陷的区域形成修正膜的步骤。

  发布时间：2023-07-01 07:18:51

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• 光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113359391A 申请号：CN202110391350.5
  发明 光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法

  • 申请号：CN202110391350.5
  • 公开号：CN113359391A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

  本发明涉及光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。具体地，在光致抗蚀剂层中形成图案的方法包括在基材上方形成光致抗蚀剂层，将光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐射，形成潜在图案。通过施加显影剂来使潜在图案显影以形成图案。光致抗蚀剂层包含光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含如下聚合物。

  发布时间：2023-06-23 07:32:26

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• 一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统 公开日期：2024-09-24 公开号：CN117170196A 申请号：CN202311060881.1
  发明 一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统

  • 申请号：CN202311060881.1
  • 公开号：CN117170196A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：安徽国芯光刻技术有限公司

  本发明公开了一种激光直写式光刻机曝光聚焦系统，涉及光刻机曝光镜头技术领域，包括光学系统以及可接收光学系统所射出的光束的曝光基板，由所述光学系统射出至曝光基板的光束所组成的曝光光路中设置有光路调节结构。所述光路调节结构包括有组合设置的固定棱镜一、固定棱镜二和调节棱镜。本发明可调整整个光路调节结构的接收光源射入位置的横截面厚度，以调节聚焦位置，得到最佳焦面，实施曝光操作。同时，调节棱镜移动与固定棱镜一、固定棱镜二所产生的上、下间隙，可达到对偏移的光束实施矫正的目的，有效避免折射至电路板上的光束与原有光束的位置存在的偏差现象，提高了聚焦位置、曝光位置的精准度。

  发布时间：2023-12-08 07:32:08

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• 正型光敏材料 公开日期：2024-09-24 公开号：CN112654928A 申请号：CN201980057768.3
  PCT发明 正型光敏材料

  • 申请号：CN201980057768.3
  • 公开号：CN112654928A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：默克专利股份有限公司

  本发明公开了一种光敏组合物，其包含a)至少一种光致产酸剂；b)至少一种酚醛清漆聚合物；c)至少一种丙烯酸酯聚合物,其包含具有结构(I)的组分；d)至少一种缩水甘油基羟基苯甲酸缩合物材料,其包含一种或多种具有结构(I I)的化合物；e)至少一种杂环硫醇化合物,其包含选自通用结构(I I I)、(I I Ia)或(I I Ib)的环结构；及f)至少一种溶剂。本文中还公开了使用此组合物以形成抗蚀剂图案的方法及使用这些抗蚀剂图案以产生金属线的方法。本文还公开了具有结构(I I)的化合物及化合物的混合物。

  发布时间：2023-06-03 12:25:12

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• 线性聚硅氧烷低介电损耗光敏树脂的制备及光刻图案化的应用 公开日期：2024-09-24 公开号：CN117111405A 申请号：CN202310978758.1
  发明 线性聚硅氧烷低介电损耗光敏树脂的制备及光刻图案化的应用

  • 申请号：CN202310978758.1
  • 公开号：CN117111405A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：西南科技大学

  本发明公开了一种线性聚硅氧烷低介电损耗光敏树脂的制备及光刻图案化的应用，其由二甲氧基(甲基)(苯并环丁烯基乙烯基)硅烷类线性聚合物、光引发体系和有机溶剂配制形成光敏溶液，通过光敏溶液制备光敏薄膜，即用于光刻图案化的线性聚硅氧烷低介电损耗光敏树脂。本发明的光敏体系光固化后所得的图案具有较高的清晰度，通过光/热双交联过程，所得的薄膜具有较高的热稳定性；同时在热处理过程中，未反应的光引发剂会热分解，不会影响薄膜的介电性能；本发明提供的线性聚硅氧烷光敏树脂，具有比较优异的介电性能(10GHz，Dk:2.7，Df：0.002～0.003)、耐热性(T5％:450℃)以及化学稳定性，有望应用于微电子领域。

  发布时间：2023-11-27 07:17:25

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• 一种晶圆匀胶设备 公开日期：2024-09-24 公开号：CN114371601A 申请号：CN202210050243.0
  发明 一种晶圆匀胶设备

  • 申请号：CN202210050243.0
  • 公开号：CN114371601A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：浙江光特科技有限公司

  本发明公开了一种晶圆匀胶设备，包括：一支撑件，其上设有3个定位组，3个所述定位组沿第一圆周的周向均匀间隔布置，所述定位组包括多个沿所述第一圆周的径向布置的定位孔；3个定位件，与3个所述定位组一一对应，所述定位件与所述定位孔可拆卸连接；一吸盘，设置于所述支撑件上，且位于3个所述定位件之间；一旋转机构，用于带动所述支撑件沿所述第一圆周的周向转动；一供胶机构；一滴胶管，与所述供胶机构连接，布置于所述吸盘的上方。将晶圆放置在吸盘上，并置于3个定位件之间，利用吸盘吸附晶圆。通过设置3个定位件，保证每次放置晶圆时，晶圆的中心固定，保证后续匀胶均匀性。

  发布时间：2023-05-09 10:02:10

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