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• 一种紫外全介质超透镜组 公开日期：2024-09-24 公开号：CN114397798A 申请号：CN202210067230.4
  发明 一种紫外全介质超透镜组

  • 申请号：CN202210067230.4
  • 公开号：CN114397798A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：东北师范大学

  本发明公开了一种紫外全介质超透镜，它包括：透明基板、亚波长阵列结构；所述的亚波长阵列结构与透明基板连接；亚波长阵列结构由多个单元结构阵列形成；单元结构的长和宽均小于工作波长。一种紫外全介质超透镜组，还包括两个一种紫外全介质超透镜，分别为：第一全介质超透镜与第二全介质超透镜；第一全介质超透镜与第二全介质超透镜的直径比设计为4:1；第一全介质超透镜与第二全介质超透镜的焦点重合；光线依次经过第一全介质超透镜与第二全介质超透镜后，呈平行光出射；本发明实现了紫外波段单波长超表面透镜，组成的紫外全介质超透镜组，具有缩束功能，并减少了紫外系统的镜片数量，透过率高、能量损失小，加工工艺较简单。

  发布时间：2023-05-09 10:38:24

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• 显影盒 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113110005A 申请号：CN202110222838.5
  发明 显影盒

  • 申请号：CN202110222838.5
  • 公开号：CN113110005A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：兄弟工业株式会社

  本发明提供一种显影盒，包括：壳体，能够在所述壳体的内部容纳显影剂；显影辊，能够关于在第一方向上延伸的轴旋转，位于所述壳体的在第二方向上的一侧；存储介质，具有电接触面；以及保持部，能够相对于所述壳体在第一位置与第二位置之间在所述第二方向上与所述电接触面一起移动，所述电接触面位于所述保持部的外表面。

  发布时间：2023-06-14 12:49:31

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• 反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113703286A 申请号：CN202110849038.6
  发明 反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备

  • 申请号：CN202110849038.6
  • 公开号：CN113703286A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

  本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xzHR)中传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第一平面中间像(18)。在第二成像光平面(yz)中，成像光传播穿过成像光学单元(7)的至少一个第二平面中间像(19,20)。第一平面中间像(18)的数量和第二平面中间像(19,20)的数量彼此不同。结果是制造成本减少的成像光学单元。

  发布时间：2023-07-01 07:11:44

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• 加热器的故障检测装置以及图像形成装置 公开日期：2024-09-24 公开号：CN112612191A 申请号：CN202011045262.1
  发明 加热器的故障检测装置以及图像形成装置

  • 申请号：CN202011045262.1
  • 公开号：CN112612191A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：株式会社理光

  本发明提供加热器的故障检测装置以及图像形成装置。一种故障检测装置，其能够恰当地检测加热器或者加热器的控制电路的故障，该加热器的故障检测装置基于表示加热器的驱动状态的信号和控制加热器的驱动的控制信号来输出故障检测信号。

  发布时间：2023-06-02 14:07:28

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• 处理盒和电子照相式成像装置 公开日期：2024-09-24 公开号：CN114047679A 申请号：CN202111360503.6
  发明 处理盒和电子照相式成像装置

  • 申请号：CN202111360503.6
  • 公开号：CN114047679A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：佳能株式会社

  本发明涉及处理盒和电子照相式成像装置，以便提供一种用于处理盒的结构，其用于从处理盒的外部接收驱动力的输入。电子照相式成像装置的主组件包括设置有输出齿轮部分和输出联接部分的驱动输出部件。能够安装至电子照相式成像装置的主组件并且能够从主组件拆卸的处理盒包括：感光部件；设置在感光部件的端部处并且能够与输出联接部分联接的输入联接部分；以及能够与输出齿轮部分啮合的输入齿轮部分。

  发布时间：2023-06-18 07:16:29

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• 一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN117706871A 申请号：CN202410018090.0
  发明 一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法

  • 申请号：CN202410018090.0
  • 公开号：CN117706871A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：青岛天仁微纳科技有限责任公司

  本发明公开了一种快速固化的纳米压印光刻胶及制备方法。该纳米压印光刻胶包括改性环氧丙烯酸树脂和光引发剂。本发明通过改性剂与丙烯酸羟乙酯酯化反应、同时接枝体与丙烯酸羟乙酯酯化反应得到混合物，再将混合物与环氧植物油进行交联，之后与扩链剂进行交联得到改性环氧丙烯酸树脂。改性环氧丙烯酸树脂与光引发剂在紫外光的作用下制备得到光刻胶。与现有技术相比，本发明制备的快速固化的纳米压印光刻胶具备碱溶性好、折光指数高、精度高、热稳定性好等优点。

  发布时间：2024-03-18 08:01:08

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• 光致抗蚀剂层脱气防止 公开日期：2024-09-24 公开号：CN113359392A 申请号：CN202110434939.9
  发明 光致抗蚀剂层脱气防止

  • 申请号：CN202110434939.9
  • 公开号：CN113359392A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

  本申请涉及光致抗蚀剂层脱气防止。具体地，一种制造半导体器件的方法包括：在基板上方形成光致抗蚀剂层；以及在所述光致抗蚀剂层上方形成脱水膜。所述光致抗蚀剂层被选择性地暴露于光化辐射，以形成所述光致抗蚀剂层的暴露部分和未暴露部分。所述光致抗蚀剂层被显影以去除所述光致抗蚀剂层的所述未暴露部分和位于所述光致抗蚀剂层的所述未暴露部分上方的所述脱水膜的第一部分。在一个实施方式中，所述方法包括通过使用所述光致抗蚀剂层的所述暴露部分作为掩模来蚀刻所述基板。

  发布时间：2023-06-23 07:32:31

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• 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 公开日期：2024-09-24 公开号：CN114924464A 申请号：CN202210124479.4
  发明 化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法

  • 申请号：CN202210124479.4
  • 公开号：CN114924464A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：信越化学工业株式会社

  本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获得改善图案形成时的分辨率且改善LER及CDU的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷(sulfurane)或硒烷(selenurane)化合物，以下式(A1)表示，及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元且因酸的作用而分解并使于碱显影液中的溶解度增大的聚合物。式中，M为硫原子或硒原子。

  发布时间：2023-05-20 11:11:18

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• 一种光刻机MLA透镜的对准调节系统 公开日期：2024-09-24 公开号：CN117289553A 申请号：CN202311098633.6
  发明 一种光刻机MLA透镜的对准调节系统

  • 申请号：CN202311098633.6
  • 公开号：CN117289553A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：安徽国芯光刻技术有限公司

  本发明公开了一种光刻机MLA透镜的对准调节系统，涉及光刻机像差调节技术领域，包括有可接收光学系统的曝光光源的DMD反射单元以及可接收DMD反射单元所射出的光束的MLA透镜单元，还包括有可接收MLA透镜单元所折射出的光束的曝光焦面，所述DMD反射单元所射出的光束在MLA透镜单元上第一次成像，经过所述MLA透镜单元再次射出后位于曝光焦面表面二次成像。本发明可驱使棱镜单元调节与横向水平面的夹角度数，以达到折射、矫正光束的目的，提高了由DMD反射单元所射出的多个独立光束与MLA透镜单元内部的多个微透镜相对应过程中的精准度，进一步提高了经过MLA透镜单元射出至曝光基板上光束的质量，提升了曝光焦面上成像的精准度。

  发布时间：2023-12-29 07:18:26

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• 一种用于光刻机的集成紫外全介质超透镜组 公开日期：2024-09-24 公开号：CN114442439A 申请号：CN202210066372.9
  发明 一种用于光刻机的集成紫外全介质超透镜组

  • 申请号：CN202210066372.9
  • 公开号：CN114442439A
  • 公开日期：2024-09-24
  • 申请人：东北师范大学

  本发明公开了一种用于光刻机的集成紫外全介质超透镜组，它包括：第一亚波长阵列结构、透明基板、第二亚波长阵列结构；所述的第一亚波长阵列结构与第二亚波长阵列结构设置在透明基板的相对两侧；两个亚波长阵列结构由多个单元结构阵列形成；单元结构长和宽均小于工作波长；亚波长阵列结构会聚光线。一个超透镜组，还包括两个超透镜，分别为第一超透镜与第二超透镜；第一超透镜和第二超透镜均为亚波长阵列结构；第一超透镜与第二超透镜集成在同一透明基板两侧；第一超透镜与第二超透镜的直径比设计为4:1；实现了具有缩束功能的集成紫外全介质超透镜组，超透镜组减少了紫外系统的镜片数量，透过率高、能量损失小，加工工艺较简单。

  发布时间：2023-05-09 11:28:59

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